[发明专利]一种平衡机台产能的方法和装置

权利要求书

1.一种平衡机台产能的方法，设置具有不同工艺流程的多个晶片组，每个晶片组都进入第一机台组加工，所述工艺流程存储在工艺流程模块中，由平衡机台设置模块根据所述工艺流程，设置每个晶片组与将要加工该晶片组的第二机台组的对应关系，该方法还包括：

对每个晶片组，实时派工系统控制模块从所述平衡机台设置模块中查询将要加工该晶片组的第二机台组，并计算工厂全部晶片组中，待处理工序处于所述第一机台组加工工序与所述第二机台组加工工序之间的晶片总数；

目标晶片数量模块统计该晶片组需要进入所述第二机台组加工的目标晶片总数，偏离率计算排序模块将所述晶片总数除以所述目标晶片总数，所得的商值作为该晶片组的偏离率，由偏离率存储模块建立并存储偏离率与晶片组的对应关系；

偏离率计算排序模块将每个晶片组的偏离率按大小排序得到较小的偏离率，根据所述偏离率与晶片组的对应关系，由所述实时派工系统控制模块控制所述第一机台组优先处理所述较小的偏离率对应的晶片组。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一机台组包含一个或多个机台；所述第二机台组包含一个或多个机台。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标晶片总数是12小时到48小时内的目标晶片总数。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标晶片总数是第二机台组中每个机台加工该晶片组的目标晶片数量的总和，所述每个机台加工该晶片组的目标晶片数量由每个机台加工该晶片组的标准晶片数量乘以产能合理利用率得到。

5.一种平衡机台产能的装置，该装置包括：实时派工系统控制模块、工艺流程模块、平衡机台设置模块、目标晶片数量模块、偏离率计算排序模块、偏离率存储模块； 

所述工艺流程模块：用于存储多个晶片组的工艺流程；

所述平衡机台设置模块，用于根据所述工艺流程模块中每个所述晶片组的工艺流程，设置每个晶片组与将要加工该晶片组的第二机台组的对应关系；

所述实时派工系统控制模块：用于对每个晶片组，从所述平衡机台设置模块中查询将要加工该晶片组的第二机台组，将所述第二机台组信息发送到所述目标晶片数量模块后，控制执行所述目标晶片数量模块；计算工厂全部晶片组中，待处理工序处于所述第一机台组加工工序与所述第二机台组加工工序之间的晶片总数，将所述晶片总数发送到所述偏离率计算排序模块；根据所述偏离率计算排序模块对偏离率的排序，控制所述第一机台组优先处理较小的偏离率对应的晶片组；

所述目标晶片数量模块，用于根据从所述实时派工系统控制模块接收的第二机台组信息，计算第二机台组的目标晶片总数，将所述目标晶片总数发送到所述偏离率计算排序模块；

所述偏离率计算排序模块：用于将所述晶片总数除以所述目标晶片总数，所得的商值作为偏离率发送到所述偏离率存储模块；将所述偏离率按大小排序；

所述偏离率存储模块：用于存储从所述偏离率计算排序模块发送的偏离率，建立并存储偏离率与晶片组的对应关系。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，该装置还包括：显示模块，用于按照所述偏离率计算排序模块对偏离率的排序，显示偏离率和所述偏离率对应的晶片组。

7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述目标晶片总数是12小时到48小时内的目标晶片总数。

8.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述目标晶片数量模块，该模块包括：标准产能单元和产能合理利用率单元和可用机台数量单元；

所述标准产能单元，用于设置所述第二机台组中每个机台的标准产能；

所述产能合理利用率单元，用于设置所述第二机台组中每个机台的产能 合理利用率。

所述可用机台数量单元，用于从所述实时派工系统控制模块得到所述第二机台组中第二机台的数量。