[发明专利]掩膜版制作方法及系统

权利要求书

1.一种掩膜版制作方法，其特征在于，包括：

a)确定光刻工艺条件；

b)按照设计图形收集所述光刻工艺条件对应的OPC数据；

c)从所述OPC数据中筛选出设计图形中的设计间距小于临界值的OPC图形数据，其中，所述临界值为，在设计图形中，使光刻图形CD与掩膜版图形CD间的差值在误差允许范围内的设计间距，并且，设计间距大于该临界值的设计图形的光刻图形CD与掩膜版图形CD间的差值也在误差允许范围内；

d)根据筛选出的所述设计间距小于临界值的OPC图形数据创建OPC模型，由所述OPC模型建立OPC程序；

e)根据所述OPC程序，对筛选出的所述设计间距小于临界值的OPC图形数据进行OPC运算；

f)验证所述OPC运算后的图形数据的CD与目标CD的差值是否在误差允许范围内，如果否，返回步骤a)、b)、c)或d)，如果是，根据所述设计图形以及所述OPC运算后的图形数据制作掩膜版。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，筛选出所述设计图形中的设计间距小于临界值的图形数据的过程包括：

从所有的OPC数据中筛选出所述设计图形中的设计间距大于和等于临界值的图形数据；

将所述设计间距大于和等于临界值的图形数据进行隔离存储，所有的OPC数据中未被隔离存储的OPC数据即为需进行OPC运算的所述OPC数据。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述设计图形以及所述OPC运算后的图形数据制作掩膜版的过程包括：

将隔离存储的图形数据与所述OPC运算后的图形数据进行结合；

根据结合后的图形数据制作掩膜版。

4.根据权利要求1、2或3所述的方法，其特征在于，所述验证的过程包括：

对所述OPC运算后的图形数据进行仿真，得出所述OPC运算后的图形数据的CD；

将所述OPC运算后的图形数据的CD与目标CD进行比较，得出二者间的差值；

判断所述差值是否在误差允许的范围内。

5.一种掩膜版制作系统，其特征在于，包括：

数据收集单元，用于根据确定的光刻工艺条件和设计图形，收集所述光刻工艺条件对应的OPC数据；

数据筛选单元，用于筛选出设计图形中的设计间距小于临界值的OPC图形数据，所述临界值为，在设计图形中，使光刻图形CD与掩膜版图形CD间的差值在误差允许范围内的设计间距，并且，设计间距大于该临界值的设计图形的光刻图形CD与掩膜版图形CD间的差值也在误差允许范围内；

程序创建单元，用于根据筛选出的所述设计间距小于临界值的OPC图形数据创建OPC模型，由所述OPC模型建立OPC程序；

运算单元，用于根据所述OPC程序，对筛选出的所述设计间距小于临界值的OPC图形数据进行OPC运算；

验证单元，用于验证所述OPC运算后的图形数据的CD与目标CD的差值是否在误差允许范围内；

制版单元，用于当所述OPC运算后的图形数据的CD与目标CD的差值在误差允许范围内时，按照所述设计图形以及所述OPC运算后的图形制作掩膜版。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述数据筛选单元包括：

临界值确定单元，用于根据设计图形的设计规格，确定所述设计间距的临界值，在所述设计图形中，设计间距大于和等于所述临界值的设计图形的光刻图形CD与掩膜版图形CD间的差值在误差允许范围内；

筛选单元，用于从所述设计图形对应的所有的OPC数据中筛选出所述设计间距大于和等于临界值的图形数据；

存储单元，用于将所述设计间距大于和等于所述临界值的OPC图形数据，以及所述设计间距小于所述临界值的OPC图形数据进行分类存储。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述存储单元包括：

第一存储单元，用于存储所述设计间距大于和等于所述临界值的OPC图形数据；

第一存储单元，用于存储所述设计间距小于所述临界值的OPC图形数据。