[发明专利]电子照相感光构件和电子照相设备

说明书

技术领域

本发明涉及包括由氢化非晶碳化硅(下文中也称作“a-SiC”)制成的表面层的电子照相感光构件，和包括该电子照相感光构件的电子照相设备。由氢化非晶碳化硅制成的表面层在下文中也称作“a-SiC表面层”。

背景技术

电子照相设备中，将其上设置光导电层(感光层)的电子照相感光构件表面充电，然后施加图像曝光光从而在电子照相感光构件表面上形成静电潜像。此外，将调色剂施加至电子照相感光构件表面上的静电潜像从而形成调色剂图像，并且将调色剂图像转印至转印材料如纸从而形成图像。在电子照相设备由此形成图像之后，一部分调色剂残留于电子照相感光构件表面上。因而，需要除去残余调色剂。通常，在清洁工序中使用清洁刮板、皮毛刷或磁铁刷除去残余调色剂，典型地在清洁工序中使用清洁刮板除去。

然而，近年来，具有小于常规平均粒径的调色剂已经用于更高图像质量，并且变得在清洁工序中难以除去残余调色剂。具体地，为清洁具有小粒径的残余调色剂，例如，需要增加清洁刮板的加压压力。这会引起清洁刮板的毛刺或电子照相感光构件的旋转力矩(running torque)的增大。为解决上述问题，日本专利申请特开No.H9-297420提出在具有非晶硅感光层的电子照相感光构件中，通过切削或旋转球磨设备预先使形成感光层的导电性基体表面粗糙的方法。日本专利申请特开No.2001-330978提出将在电子照相感光构件的10μm×10μm范围内的显微表面粗糙度Ra控制为预定值从而有效地防止调色剂附着的方法。

如上所述，已按照惯例改善了残余调色剂的有效清洁。然而，对于图像质量的市场需求已进一步增加。特别地，在按需打印(下文中也称作“POD”)如轻打印的市场中或图象领域中存在对于图像质量的显著要求。例如，不能接受迄今为止不成为问题的由于电子照相感光构件的不规则旋转而引起的微小的浓度波动(条带现象)或微小的清洁不良。

为有效地清洁残余调色剂，调整项目如清洁刮板的材料、硬度或加压压力、电子照相感光构件表面的形状或材料、调色剂的材料或粒径、外部添加剂的材料或量需要适当地调整。然而，当使用具有小粒径的调色剂时，此类设定范围可能会减少，并且不能获得充分的设计宽容度(design latitude)，这可能妨碍设计。此外，重复图像形成会依赖于调节项目的设定值逐渐改变电子照相感光构件表面的活性度，这会增大电子照相感光构件的旋转力矩。如下所述预想该现象。在充电器中或附近形成的放电产物改变活性度如电子照相感光构件表面的表面自由能。因而，推测将在电子照相感光构件附近存在的物质如调色剂、调色剂外部添加剂、纸粉或在一些情况下中间转印体的粘结剂树脂容易附着至表面，然后电子照相感光构件表面和清洁刮板之间的摩擦力改变。旋转力矩的增大可能防碍电子照相感光构件的平稳旋转，并引起条带现象。特别地，当不进行如日本专利申请特开No.H9-297420中描述的基体加工时，条带现象趋于容易发生。

即使当进行基体加工时，基体加工在初始阶段中有效，但长期使用会增大电子照相感光构件的旋转力矩并引起条带现象或清洁不良。在日本专利申请特开No.2001-330978中，仅仅考虑基体的显微粗糙度，并且使用具有小粒径的调色剂或长期使用可能增加电子照相感光构件的旋转力矩或引起条带现象。

发明内容

本发明的目的是提供能够长期输出高质量图像的电子照相感光构件和包括该电子照相感光构件的电子照相设备。

本发明提供电子照相感光构件，该电子照相感光构件包括：导电性基体、在导电性基体上的光导电层和在光导电层上由氢化非晶碳化硅制成的表面层，其中在表面层中碳原子数(C)与硅原子数(Si)和碳原子数(C)的总和之比(C/(Si+C))为0.61以上至0.75以下，在表面层中硅原子的密度和碳原子的密度的总和为6.60×10²²原子/cm³以上，和由JIS B0601：2001规定的表面层的算术平均粗糙度Ra为0.029μm以上至0.500μm以下。本发明还提供包括该电子照相感光构件的电子照相设备。

根据本发明，能够增加清洁的设计宽容度，并能够防止由电子照相感光构件旋转力矩的增大引起的条带现象，由此使高质量图像长期保持。

参照附图从以下示例性实施方案的描述中本发明的进一步特征变得显而易见。

附图说明

图1示出本发明的电子照相感光构件的层构造的实例。

图2示出等离子体CVD沉积设备的构造的实例。

图3A示出通过压印法形成的导电性基体表面的形状。