[发明专利]光刻设备和用于光刻设备的密封装置

权利要求书

1.一种设备，包括：

第一体；

第二体，所述第二体能够相对于所述第一体移动；

密封件，所述密封件被布置在所述第一体和第二体之间，使得第一空间通过所述第一体、所述第二体和所述密封件与第二空间分隔开，其中所述密封件位于离所述第一体一距离处；

流体供给装置，被布置以在所述第一体和所述密封件之间产生流体流，用于在所述第一空间和第二空间之间产生非接触密封，以便使得能够实现所述第一体和第二体之间的移动。

2.根据权利要求1所述的设备，所述设备包括控制器，所述控制器被配置以在所述第一体和第二体彼此相对移动期间控制所述距离。

3.根据权利要求2所述的设备，所述设备包括流体抽取器，所述流体抽取器被配置以抽取设置在所述第一体和密封件之间的流体流的至少一部分。

4.根据权利要求3所述的设备，其中所述控制器包括在所述密封件和所述第二体之间连接的柔性元件，所述柔性元件被配置成依赖于所述流体流改变所述距离。

5.根据权利要求4所述的设备，其中所述柔性元件靠近于所述流体抽取器。

6.根据权利要求4或5所述的设备，其中所述流体抽取器被布置在所述第二空间和所述流体供给装置之间。

7.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述第二空间包括比所述第一空间少的污染物。

8.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述第一空间包括被配置以至少部分地相对于所述第二体限制所述第一体的轴承。

9.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述第一体能够相对于所述第二体旋转。

10.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中在使用中，所述第一和第二空间处于低于所述大气压强的压强。

11.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述距离D在约10-70μm的范围内。

12.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述流体流包括氮气。

13.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述设备是被配置以输送光刻设备中的物体的输送装置。

14.一种光刻设备，包括：

衬底支撑件，被配置以保持衬底；

投影系统，被配置以将图案化的辐射束投影到所述衬底上，和

一设备，所述设备包括：

第一体；

第二体，所述第二体能够相对于所述第一体移动；

密封件，所述密封件被布置在所述第一体和第二体之间，使得第一空间通过所述第一体、所述第二体和所述密封件与第二空间分隔开，其中所述密封件位于离所述第一体一距离处；

流体供给装置，被布置以在所述第一体和所述密封件之间产生流体流，用于在所述第一空间和第二空间之间产生非接触密封，以便使得能够实现所述第一体和第二体之间的移动，和

控制器，所述控制器被配置成在所述第一体和所述第二体彼此相对移动期间控制所述距离。

15.一种方法，包括以下步骤：

提供第一体；

提供第二体，所述第二体能够相对于所述第一体移动；

提供布置在所述第一体和所述第二体之间的密封件，使得第一空间通过所述第一体、所述第二体和所述密封件与第二空间分隔开，

减小所述第一空间和所述第二空间的压强，其中所述第一空间的压强被保持在比所述第二空间的压强低的值。