[发明专利]光刻设备和用于光刻设备的密封装置

说明书

技术领域

本发明涉及光刻设备和用于光刻设备的密封装置。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。

从美国专利No.6,603,130B1了解了包括密封装置(宽泛地被称为“密封件”)的设备。美国专利No.6,603,130公开了物体台，该物体台被包含在真空腔中且是可通过定位部件围绕真空腔中的底板移动的。所述设备包括第一体、相对于第一体可移动的第二体以及布置在第一和第二体之间的密封件。为了能够移动物体台，所述物体台通过气体轴承被支撑在真空腔的底板的上方，该气体轴承围绕物体台的整个周边。气体被提供至高压区域，以形成所述轴承。一些气体将会从高压区域向外流动，且被吸入到抽空的凹槽中，这样进入真空腔的剩余的气流被保持在可接受的限度内。

对于这一设备，在第一和第二体彼此相对移动时，例如当它们彼此倾斜时，它们可能直接接触。这可能导致对所述体的损害，诸如划伤。划伤可能不被期望地改变所述两个体之间的流体流的流阻，这样劣化了密封件的性能。

发明内容

在本发明的一个方面中，提供了一种具有改进的密封性能的设备。在一个实施例中，这通过包括控制器的设备来实现，所述控制器被配置以在所述体彼此相对移动期间控制所述距离。

在本发明的一种实施例中，所述设备包括：第一体；第二体，所述第二体能够相对于所述第一体移动；密封件，所述密封件被布置在所述第一体和第二体之间，使得第一空间被通过所述第一体、所述第二体和所述密封件与第二空间分隔开，其中所述密封件位于离所述第一体一距离处；流体供给装置，被布置以在所述第一体和所述密封件之间产生流体流，用于在所述第一空间和第二空间之间产生非接触密封，以便使得能够实现所述第一体和第二体之间的移动；和控制器，所述控制器被配置以在所述第一体和第二体彼此相对移动期间控制所述距离。

通过在所述体彼此相对移动期间控制所述距离，在所述两个体彼此移动得太靠近时，可以调节所述距离。这可以防止所述体彼此接触，因此可以防止划伤。在所述体彼此移动远离的情形中，所述距离可以被制成得更小，以保持好的密封性能。这样，改善了设备的密封性能。

在本发明的一种实施例中，所述设备包括被配置以抽取设置在所述第一体和密封件之间的流体流的至少一部分的流体抽取器。由于它减少了进入所述第一空间或第二空间或者第一空间和第二空间两者的流体的量，因此这是有利的。

在本发明的一种实施例中，所述控制器包括在所述密封件和所述第二体之间连接的柔性元件，所述柔性元件被配置成依赖于所述流体流而改变所述距离。这具有所述距离在流体流由于所述体的移动而改变的情形中进行自动调节的优点。

在本发明的所述设备的一种实施例中，所述柔性元件靠近于所述流体抽取器。

在本发明的所述设备的一种实施例中，所述流体抽取器在所述第二空间和所述流体供给装置之间。这具有从流体供给装置至所述第二空间的流体流的量被减小的优点。

在本发明的所述设备的一种实施例中，所述第二空间包括比所述第一空间少的污染物。

在本发明的所述设备的一种实施例中，所述第一空间包括被配置以至少部分地相对于所述第二体限制所述第一体的轴承。这可能具有可以使用不能在第二空间中使用的轴承的优点。例如，所述轴承可以是简单的滚子轴承，该滚子轴承被配置成产生太多的污染颗粒，而不能用在第二空间中。

在本发明的所述设备的一种实施例中，第一空间包括烃。这具有的优点是，例如，诸如润滑脂和油的润滑剂可以用在第一空间中，但其不可以用在第二空间中。

在本发明的所述设备的一种实施例中，所述第一体能够相对于所述第二体旋转。