[发明专利]防反射用层合体及其制备方法、以及固化性组合物

权利要求书

1.一种防反射用层合体，其在基材上具有固化膜，所述固化膜含有基质和折射率为1.40以下的颗粒，所述基质具有选自羟基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1种以上的极性基团，所述基质1g中的羟基浓度、羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～15mmol/g；

所述颗粒偏在于所述固化膜中与所述基材接触的面相反的面侧。

2.如权利要求1所述的防反射用层合体，其中，所述基质1g中的羟基浓度为2.0mmol/g～15mmol/g。

3.如权利要求1所述的防反射用层合体，其中，所述基质1g中的羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～10mmol/g。

4.如权利要求1所述的防反射用层合体，其中，所述基质1g中的羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～5mmol/g。

5.如权利要求1所述的防反射用层合体，其中，所述颗粒是中空二氧化硅颗粒。

6.一种防反射用层合体，其在基材上具有固化性组合物的固化膜，所述固化性组合物含有聚合性化合物和折射率为1.40以下的颗粒，所述聚合性化合物具有选自羟基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1种以上的极性基团，全部聚合性化合物1g中的羟基浓度、羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～15mmol/g；

所述颗粒偏在于所述固化膜中与所述基材接触的面相反的面侧。

7.如权利要求6所述的防反射用层合体，其中，所述全部聚合性化合物1g中的羟基浓度为2.0mmol/g～15mmol/g。

8.如权利要求6所述的防反射用层合体，其中，所述全部聚合性化合物1g中的羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～10mmol/g。

9.如权利要求6所述的防反射用层合体，其中，所述全部聚合性化合物1g中的羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～5mmol/g。

10.如权利要求6所述的防反射用层合体，其中，所述颗粒是中空二氧化硅颗粒。

11.如权利要求1～10中任一项所述的防反射用层合体，其中，所述基材是三乙酰纤维素树脂膜或聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂膜。

12.一种防反射用层合体的制备方法，该方法包括将固化性组合物涂布于基材、然后使其固化的工序，其中所述固化性组合物含有聚合性化合物和折射率为1.40以下的颗粒，所述聚合性化合物具有选自羟基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1种以上的极性基团，全部聚合性化合物1g中的羟基浓度、羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～15mmol/g。

13.如权利要求12所述的防反射用层合体的制备方法，其中，所述固化性组合物的全部聚合性化合物1g中的羟基浓度为2.0mmol/g～15mmol/g。

14.如权利要求12所述的防反射用层合体的制备方法，其中，所述固化性组合物的全部聚合性化合物1g中的羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～10mmol/g。

15.如权利要求12所述的防反射用层合体的制备方法，其中，所述固化性组合物的全部聚合性化合物1g中的羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～5mmol/g。

16.如权利要求12所述的防反射用层合体的制备方法，其中，所述颗粒是中空二氧化硅颗粒。

17.如权利要求12～16中任一项所述的防反射用层合体的制备方法，其中，所述基材是三乙酰纤维素树脂膜或聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂膜。

18.一种固化性组合物，其含有聚合性化合物和折射率为1.40以下的颗粒，所述聚合性化合物具有选自羟基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1种以上的极性基团，全部聚合性化合物1g中的羟基浓度、羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～15mmol/g。

19.如权利要求18所述的固化性组合物，其中，所述全部聚合性化合物1g中的羟基浓度为2.0mmol/g～15mmol/g。