[发明专利]防反射用层合体及其制备方法、以及固化性组合物

说明书

技术领域

本发明涉及防反射用层合体及其制备方法、以及固化性组合物。

背景技术

近年来，作为电视、个人计算机等的显示装置，使用液晶显示装置。所述液晶显示装置中，为了防止外部光的反射、提高画质，提出使用含有低折射率层的防反射膜。

以往的液晶显示装置中使用的防反射膜通过多层涂布低折射率层和硬涂层而具备了低折射率性和耐划伤性。这样的具有多层结构的防反射膜在低折射率层中可以使反射率降低，但为了制成多层结构，有生产性或成本出现劣势的问题。并且，通过层合低折射率层和硬涂层而制备的防反射膜还有容易在低折射率层和硬涂层的界面发生剥离的问题。

为解决上述问题，提出了用氟硅烷修饰二氧化硅颗粒，通过表面能量使二氧化硅颗粒偏在于其液体中，然后形成固化膜的防反射膜的制备方法(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本国 特开2001-316604号公报

发明内容

但是，专利文献1所述的方法存在二氧化硅颗粒的偏在性不稳定的问题。

因此，本发明所述的几个方案，通过解决上述课题，提供可以通过一次涂布工序形成低折射率性和耐划伤性优异的固化膜的固化性组合物、或具有该固化膜的防反射用层合体及其制备方法。

本发明为解决上述课题中的至少一部分而完成，可以以如下的方案或应用例的形式实现。

[应用例1]

本发明的防反射用层合体的一个方案的特征在于：在基材上具有固化膜，所述固化膜含有基质和折射率为1.40以下的颗粒，所述基质具有选自羟基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1种以上的极性基团，上述基质1g中的羟基浓度、羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～15mmol/g；上述颗粒偏在于上述固化膜中与上述基材接触的面相反的面侧。

根据所述防反射用层合体，由于在与基材接触的面相反的面侧具有折射率为1.40以下的颗粒高密度存在的层，在与基材接触的面侧具有折射率为1.40以下的颗粒实质上不存在的层，因此可兼具耐划伤性和低折射率性两者。

[应用例2]

如应用例1的防反射用层合体，上述基质1g中的羟基浓度可以是2.0mmol/g～15mmol/g。

[应用例3]

如应用例1的防反射用层合体，上述基质1g中的羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计可以是0.5mmol/g～10mmol/g。

[应用例4]

如应用例1的防反射用层合体，上述基质1g中的羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计可以是0.5mmol/g～5mmol/g。

[应用例5]

如应用例1的防反射用层合体，上述颗粒可以是中空二氧化硅颗粒。

[应用例6]

本发明的防反射用层合体的一个方案的特征在于：在基材上具有固化性组合物的固化膜，所述固化性组合物含有聚合性化合物和折射率为1.40以下的颗粒，所述聚合性化合物具有选自羟基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1种以上的极性基团，全部聚合性化合物1g中的羟基浓度、羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g～15mmol/g；上述颗粒偏在于上述固化膜中与上述基材接触的面相反的面侧。

根据所述防反射用层合体，由于在与基材接触的面相反的面侧具有折射率为1.40以下的颗粒高密度存在的层，在与基材接触的面侧具有折射率为1.40以下的颗粒实质上不存在的层，因此可兼具耐划伤性和低折射率性两者。

[应用例7]

如应用例6的防反射用层合体，上述全部聚合性化合物1g中的羟基浓度可以是2.0mmol/g～15mmol/g。

[应用例8]

如应用例6的防反射用层合体，上述全部聚合性化合物1g中的羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计可以是0.5mmol/g～10mmol/g。

[应用例9]

如应用例6的防反射用层合体，上述全部聚合性化合物1g中的羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计可以是0.5mmol/g～5mmol/g。

[应用例10]

如应用例6的防反射用层合体，上述颗粒可以是中空二氧化硅颗粒。

[应用例11]

应用例1～应用例10中的任一例中，上述基材可以是三乙酰纤维素树脂膜或聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂膜。

[应用例12]