[发明专利]壳体及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种壳体及其制造方法。

背景技术

真空镀膜技术(PVD)是一种非常环保的成膜技术。以真空镀膜的方式所形成的膜层具有高硬度、高耐磨性、良好的化学稳定性、与基体结合牢固以及亮丽的金属外观等优点，因此真空镀膜在铝、铝合金及不锈钢等金属基材表面装饰性处理领域的应用越来越广。

然而，由于铝或铝合金的标准电极电位很低，与PVD镀层，如TiN层、TiN层或CrN层的电位差较大，且PVD镀层本身不可避免的会存在微小的孔隙，如针孔、裂纹，致使铝或铝合金基体易于发生微电池腐蚀。因此，直接于铝或铝合金基体表面镀覆所述TiN层、TiN层或CrN层并不能有效提高所述铝或铝合金基体的耐腐蚀性能，同时该PVD镀层本身也会发生异色、脱落等现象，难以维持良好的装饰外观。

发明内容

鉴于此，提供一种具有良好的耐腐蚀性及装饰性外观的壳体。

另外，还提供一种上述壳体的制造方法。

一种壳体，包括铝或铝合金基体、依次形成于铝或铝合金基体上的结合层、防腐蚀层，所述结合层为硅层，所述防腐蚀层为氮化硅层。

一种壳体的制造方法，包括以下步骤：

提供铝或铝合金基体；

在该铝或铝合金基体上磁控溅射形成结合层，该结合层为硅层；

在该结合层上磁控溅射形成防腐蚀层，该防腐蚀层为氮化硅层。

所述壳体的制造方法，通过磁控溅射法依次于铝或铝合金基体上形成结合层、防腐蚀层及具有装饰性的色彩层。该结合层为一硅层，其能很好地起到一个过渡结合作用，使该防腐蚀层与铝或铝合金基体更稳定地结合，该防腐蚀层为一氮化硅层，其以磁控溅射技术形成，具有更致密的超细微结构，其陶瓷材料的绝缘性能可减缓电偶腐蚀速率。另外，氮化硅膜层的抗震稳定性起到了缓解应力的作用，有利于色彩层附着力的改善，避免所述色彩层发生异色、脱落等失效现象，从而使该壳体经长时间使用后仍具有较好的装饰性外观。

附图说明

图1为本发明较佳实施例的壳体的剖视图。

主要元件符号说明

壳体             10

铝或铝合金基体   11

结合层           13

防腐蚀层         15

色彩层           17

具体实施方式

请参阅图1，本发明一较佳实施例的壳体10包括铝或铝合金基体11、依次形成于该铝或铝合金基体11上的结合层13、防腐蚀层15。该壳体10可以为3C电子产品的壳体，也可为工业、建筑用件及汽车等交通工具的零部件等。

所述结合层13为硅层，其厚度为0.1～0.2μm。

所述防腐蚀层15为氮化硅层，其厚度为0.5～1.0μm。

在所述的防腐蚀层15上还可以磁控溅射一色彩层，所述色彩层17为氮化钛层(Ti-N)，其厚度为1.0～3.0μm。

可以理解，所述色彩层17还可以为氮化铬层(Cr-N)或其他具有装饰性的色彩层。

所述结合层13、防腐蚀层15及色彩层17均可通过磁控溅射法形成。

本发明一较佳实施例的制造所述壳体10的方法主要包括如下步骤：

提供铝或铝合金基体11，并对铝或铝合金基体11依次进行研磨及电解抛光。电解抛光后，再依次用去离子水和无水乙醇对该铝或铝合金基体11表面进行擦拭。再将擦拭后的铝或铝合金基体11放入盛装有丙酮溶液的超声波清洗器中进行震动清洗，以除去铝或铝合金基体11表面的杂质和油污等。清洗完毕后吹干备用。

对经上述处理后的铝或铝合金基体11的表面进行氩气等离子清洗，进一步去除铝或铝合金基体11表面的油污，以改善铝或铝合金基体11表面与后续涂层的结合力。该等离子清洗的具体操作及工艺参数可为：将铝或铝合金基体11放入一磁控溅射镀膜机(图未示)的镀膜室内，对该镀膜室进行抽真空处理至真空度为1.0×10^-3Pa，以250～500sccm(标准状态毫升/分钟)的流量向镀膜室中通入纯度为99.999％的氩气，于铝或铝合金基体11上施加-300～-800V的偏压，对铝或铝合金基体11表面进行等离子清洗，等离子清洗时间为3～10min。