[发明专利]一种曝光方法有效
| 申请号： | 201010574406.2 | 申请日： | 2010-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN102486616A | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 段天利;张三强;平梁良;李晓波 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/207 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮;李辰 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种曝光方法，其特征在于，包括：
步骤A：判断曝光区域的中心是否在晶片上，如果是，则执行步骤B；如果否，则执行步骤C；
步骤B：判断曝光区域的中心是否在晶片边缘的预设宽度范围内，如果是，则执行步骤C；如果否，则执行步骤D；
步骤C：对所述曝光区域采用漂移聚焦形式进行曝光；
步骤D：对所述曝光区域采用自动聚焦形式进行曝光。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预设宽度不小于去边宽度与光束长度一半之和。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预设宽度不小于去边宽度与光束对角线长度一半之和。
4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述去边宽度为3mm。
5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述光束长度为2mm。
6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述光束对角线长度为2mm。
7.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述预设宽度为4mm。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤C具体为：
将对该曝光区域进行曝光的光束中心沿水平方向移动至能够实现自动聚焦的区域进行曝光。
9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤C具体为：
将对该曝光区域进行曝光的光束中心沿对角方向移动至能够实现自动聚焦的区域进行曝光。
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