[发明专利]一种Ag2X薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种Ag₂X薄膜的制备方法，其中X为硒或碲，其特征在于：包括步骤：

(1)配料：将硝酸银和硒或碲的化合物加入盛有溶剂的烧杯中，再加入碱和络合剂，搅拌使其充分溶解，然后加入还原剂，充分溶解后停止搅拌，放入基片用于沉积Ag₂X薄膜；

(2)恒温反应；

(3)洗涤；

(4)干燥。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的硝酸银和硒或碲的化合物按照原子比Ag∶X＝2∶1的量加入。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的含硒的化合物选自二氧化硒、亚硒酸钠或亚硒酸钾；所述的含碲的化合物选自二氧化碲、亚碲酸钠或亚碲酸钾。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的洗涤是在反应达到设定时间后，用去离子水和无水乙醇冲洗薄膜2-3次。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的碱为氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化铷之一；碱浓度在0.1-0.5mol/L之间。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的络合剂选自巯基乙酸或巯基丙酸；加入络合剂的摩尔量是反应体系中Ag原子摩尔量的2～5倍。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的还原剂为硼氢化钾或硼氢化钠；加入还原剂的摩尔量是反应体系中Ag原子摩尔量的6～16倍。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的恒温反应在室温至70℃之间；所述的恒温反应的时间为12-24小时。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的基片为玻璃、氧化铝、硅片、铁片、铜片、钛片、金片、银片、铂片、聚苯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺或聚碳酸酯；所述的基片大小与所用烧杯匹配，倾斜放入烧杯，与烧杯底成20-70°角。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的保温设备为能控温的水浴锅或油浴锅；所述的薄膜干燥方法采用自然风干。