[发明专利]线路板及其制造方法有效
申请号: | 201010586309.5 | 申请日: | 2010-12-08 |
公开(公告)号: | CN102480847A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 余丞博;徐嘉良 | 申请(专利权)人: | 欣兴电子股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/10 | 分类号: | H05K3/10;H05K3/40;H05K1/02;H05K1/03 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾桃园县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 线路板 及其 制造 方法 | ||
1.一种线路板的制造方法,其特征在于包括:
提供一复合基板,该复合基板包括一导体层以及一覆盖该导体层的活化绝缘层,其中该活化绝缘层包括多颗第一触媒颗粒;
在该活化绝缘层的一上表面上形成一凹刻图案以及至少一与该凹刻图案相通的盲孔,其中一些第一触媒颗粒活化并裸露在该凹刻图案内与该盲孔内,而该盲孔局部暴露该导体层;
将该些活化的第一触媒颗粒置换成多个第二触媒颗粒;以及
利用该些第二触媒颗粒,在该凹刻图案内形成一线路层,以及在该盲孔内形成一导电柱,其中该导电柱连接在该导体层与该线路层之间。
2.根据权利要求1所述的线路板的制造方法,其特征在于其中形成该凹刻图案与该盲孔以及活化该些第一触媒颗粒的方法包括激光烧蚀、等离子体蚀刻或机械加工法。
3.根据权利要求1所述的线路板及其制造方法,其特征在于其中形成该线路层与该导电柱的方法包括化学镀与化学气相沉积二者至少其中之
4.根据权利要求1所述的线路板及其制造方法,其特征在于在形成该盲孔之后,更包括对该盲孔进行去胶渣。
5.根据权利要求1所述的线路板及其制造方法,其特征在于在将该些活化的第一触媒颗粒置换成该些第二触媒颗粒之后,更包括对该盲孔所暴露的该导体层进行微蚀刻。
6.根据权利要求1所述的线路板及其制造方法,其特征在于其中将该些活化的第一触媒颗粒置换成该些第二触媒颗粒的方法包括将该活化绝缘层浸泡在一化学药液中,该化学药液包括多个带电粒子,而该些带电粒子与其所接触的该些第一触媒颗粒产生置换反应。
7.根据权利要求1所述的线路板及其制造方法,其特征在于其中该些第一触媒颗粒的材料选自于由锌、铜、银、镍、钴、铁、锰、镉、钛、锡、铅、铬、铝以及钼所组成的群组之一。
8.根据权利要求7所述的线路板及其制造方法,其特征在于其中该些第二触媒颗粒的材料选自于由钯、锌、铜、银、镍、钴、铁、锰、镉、钛、锡、铅、铬、铝以及钼所组成的群组之一,该些第二触媒颗粒的材料不同于该些第一触媒颗粒的材料,且该些第二触媒颗粒的标准还原电位高于该些第一触媒颗粒的标准还原电位。
9.根据权利要求1所述的线路板及其制造方法,其特征在于其中所述的活化绝缘层更包括一高分子化合物,而该些第一触媒颗粒分布在该高分子化合物中。
10.根据权利要求1所述的线路板及其制造方法,其特征在于其中所述的复合基板更包括一主体层,该导体层位在该主体层与该活化绝缘层之间。
11.一种线路板,其特征在于其包括:
一导体层;
一活化绝缘层,覆盖该导体层,并包括多个第一触媒颗粒,其中该活化绝缘层具有一凹刻图案以及至少一与该凹刻图案相通的盲孔;
一线路层,配置在该凹刻图案内;
至少一导电柱,配置在该盲孔内,并连接在该线路层与该导体层之间;以及
多个第二触媒颗粒,位在该凹刻图案内与该盲孔内,并且固设于该活化绝缘层,其中该些第二触媒颗粒接触该线路层与该导电柱,而该些第二触媒颗粒的材料不同于该些第一触媒颗粒的材料。
12.根据权利要求11所述的线路板,其特征在于更包括一主体层,其中该导体层位在该主体层与该活化绝缘层之间。
13.根据权利要求11所述的线路板,其特征在于其中所述的活化绝缘层更包括一高分子化合物,该些第一触媒颗粒分布在该高分子化合物中,而该些第二触媒颗粒固设于该高分子化合物。
14.根据权利要求11所述的线路板,其特征在于其中该些第一触媒颗粒的材料选自于由锌、铜、银、镍、钴、铁、锰、镉、钛、锡、铅、铬、铝以及钼所组成的群组之一。
15.根据权利要求14所述的线路板,其特征在于其中该些第二触媒颗粒的材料选自于由钯、锌、铜、银、镍、钴、铁、锰、镉、钛、锡、铅、铬、铝以及钼所组成的群组之一,该些第二触媒颗粒的材料不同于该些第一触媒颗粒的材料,且该些第二触媒颗粒的标准还原电位高于该些第一触媒颗粒的标准还原电位。
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