[发明专利]CMOS集成光接收器带宽扩展技术无效

专利信息
申请号: 201010590919.2 申请日: 2010-12-15
公开(公告)号: CN102544030A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 蔡毅军 申请(专利权)人: 无锡凌瑞微电子有限公司
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H04B10/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214028 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: cmos 集成 接收器 带宽 扩展 技术
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种用于CMOS集成光接收器带宽扩展技术,属于大规模集成电路设计技术领域。

背景技术

光接收器是光通讯中将接收到的光信号转换为电信号的装置。一般由光电探测器PD和跨阻放大器所组成,见图1。光电探测器可由光电二极管接反向偏压实现。光电二极管通常基于GaAs和InGaAs等化合物半导体,这类光电二极管对红外波长(850nm,1310nm和1550nm)有优异的响应,广泛用于电信网络。基于Si半导体的光电二极管可用于可见光(400nm-700nm)波段,适用于塑料光纤(POF)和无线可见光通讯(VLC)。其优点是成本低,并可以在普通CMOS工艺上实现,从而与跨阻放大器(TIA)集成为一颗芯片。CMOS集成光接收器把光电二极管PD和跨阻放大器TIA集成在同一CMOS芯片衬底上。省去了芯片之间的绑线(Bonding Wire)和封装,从而降低了成本,并提高了可靠性。见图2。但集成的光电二极管PD由于CMOS衬底中的参杂,使其寄生电容增加,带宽减小,限制了其应用。

发明内容

为了克服现有CMOS光电二极管的缺点,本发明提出了一种带宽扩展技术。如图3所示,即利用在PD和TIA输入中加入适当片上电感,来抵消了寄生电容的影响,使得集成光接收器的带宽得以增强。加入的电感有效利用了PD周边的面积,对芯片总面积的影响可降为最低。

本发明的具体技术方案如图4所示。图4上半部显示了芯片的鸟瞰图,下半部为抛面图。

光电二极管的PN结由扩散层n+和p-sub衬底构成。N well可置于n+和p-sub之间,增加对长波长的吸收。片上电感采用顶层金属平面结构,对于GHz带宽应用,片上电感值约5-10nH,其大小符合光电二极管的采光空间。因此可以环绕光电二极管PD的采光空间,这样可以减少占用的芯片面积。CMOS跨阻放大器TIA采用NMOS和PMOS及片上电阻组合而成,部分电感同时可作为PD和TIA之间的联线。

最后,以上结构的仿真模型可用SPICE建立。通过访真,可以得到所需电感的精确值。图5是仿真结果。

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