[发明专利]一种基于SCR的集成电路静电保护器件有效
申请号: | 201010593440.4 | 申请日: | 2010-12-17 |
公开(公告)号: | CN102110686A | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
发明(设计)人: | 代萌;林中瑀 | 申请(专利权)人: | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 宋松 |
地址: | 214028 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 scr 集成电路 静电 保护 器件 | ||
1.一种基于SCR结构的集成电路静电保护器件,包含由P+注入区(1)、P阱(5)、N阱(7)、N+注入区(9)构成的SCR,其特征在于:在所述SCR的阳极端(1)下面增加一个N注入区(8)。
2.根据权利要求1所述的集成电路静电保护器件,其特征在于:由N+注入区(2),FOX(3),POLY(4),N+注入区(9)共同形成LDMOS基本结构,该结构与所述SCR共同构成一个SCR-LDMOS结构。
3.根据权利要求2所述的集成电路静电保护器件,其特征在于:所述N注入区(8)位于P+注入区(1)和N+注入区(2)的下部,与P阱(5)、N阱(7)相邻。
4.根据权利要求3所述的集成电路静电保护器件,其特征在于:包含一个LDMOS的漂移区N注入区(6),位于FOX(3)的下部,与所述N注入区(8)相连接。
5.用于权利要求1至4中任一权利要求所述的集成电路静电保护器件的维持电压调节方法,其特征在于:通过调整所述N注入区(8)的剂量,降低原有器件的ESD触发电压及提高其维持电压。
6.根据权利要求5所述的集成电路静电保护器件的维持电压调节方法,其特征在于:通过ESD注入提高N注入区(8)的电子浓度。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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