[发明专利]等离子显示屏前面板的制作方法有效
申请号: | 201010597911.9 | 申请日: | 2010-12-21 |
公开(公告)号: | CN102097267A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 田玉民;罗向辉 | 申请(专利权)人: | 四川虹欧显示器件有限公司 |
主分类号: | H01J9/20 | 分类号: | H01J9/20;H01J9/02;C23C14/24;C23C14/08;C23C14/14 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 邓世燕 |
地址: | 621000 四川省绵阳市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 显示屏 面板 制作方法 | ||
1.一种等离子显示屏前面板的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)蒸镀ITO膜:将前面板玻璃清洗后放入真空镀膜机中,使用靶材蒸镀得到130-160nm厚度的ITO膜;
2)蒸镀Cr、Cu、Cr层:将具有ITO膜层的前面板放入真空镀膜机中,在150~250℃下使用Cr靶材蒸镀底层Cr,得到厚度为0.04-0.06μm厚度的薄膜层;然后使用Cu靶材蒸镀中间层Cu,得到厚度为2-4μm厚度的薄膜层;再使用Cr靶材蒸镀上层Cr,得到厚度为0.1μm的薄膜层;
3)Pr感光胶涂敷、曝光、显影:将具有ITO膜和Cr/Cu/Cr膜四层涂层的前面板在0.1-0.2Mpa的压力下涂敷Pr感光胶,在70-80℃的炉温下进行干燥,得到厚度为5-20μm的连续的Pr胶层;在曝光机内通过母版对玻璃基板上的Pr胶层进行曝光,曝光量为60-150mJ/cm2、曝光间隙为250-400μm;然后在浓度为0.4%、温度为25-35℃的Na2CO3溶液下、在0.6-0.8Kg/cm2的压力下进行显影,显影后经过水洗、再经过UV固化,得到具有Pr胶的图形;
4)刻蚀:先使用浓度为14wt%、温度为35℃的HCl刻蚀液对上层Cr进行刻蚀,接着使用浓度为3.9wt%、温度为30℃的FeCl3刻蚀液对中间层Cu进行刻蚀,然后使用浓度为4wt%的KMnO4和浓度为6wt%的Na2SiO3、温度为40℃的刻蚀液对下层Cr进行刻蚀,最后使用浓度为18wt%的HCl和浓度为11wt%的FeCl3、温度为45℃的刻蚀液对ITO层进行刻蚀;最后使用浓度为12-14wt%、温度为40℃的NaOH剥膜液剥掉Pr胶层,同时得到ITO电极和BUS电极;
5)涂敷介质层:刻蚀完毕的前面板经过清洗,在上面涂敷50μm厚度的前介质浆料,在150℃的温度下保温20-30min进行干燥,然后在600-620℃的烧结温度下进行烧结,烧结后得到第一层介质;再在烧结后的第一层介质上涂敷50μm厚度的前介质浆料,在150℃的温度下保温20-30min进行干燥,最后在550-570℃下进行烧结,从而得到满足厚度要求的透明介质层;
6)蒸镀MgO层:将经过清洗的前面板玻璃放入MgO镀膜机真空室中,在220-250℃的温度下蒸镀MgO层,得到满足厚度要求的MgO层;蒸镀完毕后二次喷涂MgO,得到满足覆盖率要求的二次MgO层。
2.根据权利要求1所述的等离子显示屏前面板的制作方法,其特征在于:在蒸镀ITO膜时使用的靶材是由In2O3和SnO2烧结而成的靶材。
3.根据权利要求1所述的等离子显示屏前面板的制作方法,其特征在于:所述Pr感光胶为同时具有耐HCl+FeCl3混合液和KMnO4+Na2SiO3混合液刻蚀的能力。
4.根据权利要求1所述的等离子显示屏前面板的制作方法,其特征在于:所述母版能同时满足ITO电极和Cr/Cu/Cr电极的制作。
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