[发明专利]被覆件及其制造方法有效
申请号: | 201010598888.5 | 申请日: | 2010-12-21 |
公开(公告)号: | CN102560341A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;廖高宇;熊小庆 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 被覆 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种被覆件及其制造方法。
背景技术
现有的镁、镁合金、铝或铝合金等低熔点材料的成型模具的材质通常为不锈钢。然而,在高温氧化性环境中,不锈钢基体表面易形成疏松的氧化铬(Cr2O3)层;当温度逐渐升高,Cr2O3层变得不稳定并开始分解,使得不锈钢基体内部F e、Ni等金属离子向Cr2O3层扩散,引起Cr2O3层出现裂纹、剥落等氧化失效现象,大大降低了不锈钢基体的高温抗氧化性。
此外,所述Cr2O3层的形成将使成型模具表面变得粗糙,如此将影响成型产品的外观、降低成型产品的良率,同时也会缩短成型模具的使用寿命。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种能较好的解决上述问题的被覆件。
另外,还提供上述被覆件的制造方法。
一种被覆件,包括基体、依次形成于基体上的铬层、氮氧化铬层及氧化铝层。
一种被覆件的制造方法,包括以下步骤:
提供基体;
以铬靶为靶材,于基体上磁控溅射铬层;
以铬靶为靶材,以氮气及氧气为反应气体,于铬层上磁控溅射氮氧化铬层;
以铝靶为靶材,以氧气为反应气体,于氮氧化铬层上磁控溅射氧化铝层。
本发明被覆件的制造方法,在基体上通过磁控溅射镀膜法依次形成铬层、氮氧化铬层及氧化铝层。所述铬层及氮氧化铬层的形成,可有效提高所述基体的高温抗氧化性;所述氧化铝层的形成可防止所述氮氧化铬层被刮伤,从而使所述被覆件10具有良好的耐磨性。
此外,当被覆件为用于成型镁、镁合金、铝或铝合金等低熔点材料的成型模具时,所述被覆件高温抗氧化性的提高,可提高成型产品的良率,还可延长被覆件的使用寿命。
附图说明
图1为本发明一较佳实施例的被覆件的剖视图;
图2为制造图1中镀膜件所用真空镀膜机的示意图。
主要元件符号说明
被覆件 10
基体 11
铬层 13
氮氧化铬层 15
氧化铝层 17
镀膜机 100
镀膜室 20
真空泵 30
轨迹 21
第一靶材 22
第二靶材 23
气源 24
具体实施方式
请参阅图1,本发明一较佳实施例的被覆件10包括基体11、依次形成于基体11上的铬层13、氮氧化铬(CrON)层15及氧化铝(Al2O3)层17。
所述基体11的材质为不锈钢、模具钢或高速钢等。
所述被覆件10可为用于成型镁、镁合金、铝或铝合金等低熔点材料的成型模具。
所述铬层13、CrON层15及Al2O3层17可分别通过磁控溅射镀膜法形成。
所述铬层13的厚度为100~200nm。
所述CrON层15的厚度为0.5~1μm。所述CrON层15中铬元素的质量百分含量为40%~60%,氧元素的质量百分含量为30%~50%,氮元素的质量百分含量为5%~15%。
所述Al2O3层17的厚度为0.3~0.5μm。
请一并参阅图2所示,本发明一较佳实施例的被覆件10的制造方法主要包括如下步骤:
提供一基体11。该基体11可以通过冲压成型得到。
对该基体11进行预处理。该预处理可包括常规的对基体11进行化学除油、除蜡、酸洗、超声波清洗及烘干等步骤。
提供一镀膜机100,将所述基体11置于该镀膜机100内,采用磁控溅射镀膜法依次于基体11上形成铬层13、CrON层15及Al2O3层17。
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