[发明专利]激光图案掩模及其制造方法

权利要求书

1.一种激光图案掩模，包括：

基底基板；

在基底基板上由不透明金属形成来限定激光光束通过区域的激光防护图案；以及

形成在包括激光防护图案的基底基板的整个表面上的保护膜。

2.如权利要求1所述的激光图案掩模，其中所述不透明金属为选自于Al、Ag以及Au中的一种。

3.如权利要求1所述的激光图案掩模，其中所述保护膜是由MgF₂或者SiO₂所形成。

4.一种用于制造激光图案掩模的方法，包括以下步骤：

在基底基板上形成不透明金属的激光防护图案来限定激光光束通过区域；以及

在包括激光防护图案的基底基板的整个表面上形成保护膜。

5.如权利要求4所述的方法，其中所述形成激光防护图案的步骤包括以下步骤：

在基底基板上形成激光防护层，并且将光刻胶涂覆在激光防护层上；

使所述光刻胶曝光且显影来形成具有激光光束通过区域的光刻胶图案；

从激光光束通过区域去除残留的光刻胶；

通过使用光刻胶图案对激光防护层构图来形成激光防护图案；以及

去除光刻胶图案。

6.如权利要求5所述的方法，其中所述从激光光束通过区域去除残留的光刻胶的步骤包括使用灰化或者干法刻蚀的步骤。

7.如权利要求5所述的方法，其中所述形成激光防护层的步骤包括使用湿法刻蚀的步骤。

8.如权利要求4所述的方法，其中所述形成保护膜的步骤包括使用选自于CVD即化学气相沉积、溅射以及电子束中的一种工艺。