[发明专利]激光图案掩模及其制造方法

说明书

本申请要求2010年10月4日提交的韩国专利申请第10-2010-0096220号的优先权，通过参考将其并入本文，就如同在此全部阐述一样。

技术领域

本发明涉及一种激光图案掩模，更具体而言，涉及可缩短通过激光烧蚀对层构图时的加工时间以提高产能的激光图案掩模及其制造方法。

背景技术

通常，随着信息型社会的发展，对于显示器件的需求以各种形式逐渐增大，为了满足该需求，已经研究了不同类型的平板显示器件，例如LCD(液晶显示器件)、PDP(等离子体显示面板)、ELD(电子发光显示器)、VFD(真空荧光显示器)等等，并且目前其中一些平板显示器件在不同设备中被用作显示器件。

通常，使用印刷工艺或者光刻工艺来对平板显示器件的多个层进行构图。

同时，目前由于生产大型平板显示器件的趋势持续不断，并且已经开发出在一个母基板上形成多个基板以提高生产率且节约平板显示器件成本的多面板切割工艺，因此已经开发出激光烧蚀工艺来作为将多平板切割工艺顺利地应用到生产大型平板显示器件的趋势中的方法。

激光烧蚀工艺使母基板上的层能够被用于对该层构图的激光光束精确且有效地曝光。

以下将参照附图来描述激光烧蚀器件。

图1图解了激光烧蚀器件，图2图解了图1中的激光图案掩模的截面。

参照图1，所述激光烧蚀器件具有光源10、光束成形单元15、激光图案掩模20、光束转向单元25以及投影透镜30，用于通过以下步骤将激光光束施加到母基板上。

来自光源的激光束具有在其通过光束成形单元15和激光图案掩模20时因会聚或发散形成的截面。

参照图2，激光图案掩模20(参见图1)具有激光防护图案130，用于形成到基底基板100的开口区域。

在这种情形下，开口区域为允许激光光束从中通过的区域。

一般而言，基底基板100由具有良好透光性的石英制成，并且激光防护图案130由例如铬(Cr)或者氧化铬的不透明金属形成。

回到图1，当激光光束通过光束转向单元25时激光光束发生方向改变，并且当激光光束通过投影透镜30时被以固定倍率放大。并且，当如此穿过投影透镜30的激光光束入射到母基板70的层上时，对该层进行与激光图案掩模20的图案相同的构图。

由于母基板70具有多个平板70a，因此需要将该层构图成多个相同图案。在这种情形下，不是一次进行多个相同图案构图，而是当母基板70在左右方向上移动时逐次进行多个相同图案构图。

同时，如果当母基板70在左右方向上移动时对该层构图，则容易发生拼接错误，增加了加工时间(tack time)，从而使产能下降。

因此，尽管可设想一次对母基板70上的整个层进行构图的方法，但是由于将与施加到母基板70的层上的激光能量相同的激光能量施加到激光图案掩模20上，损坏了激光图案掩模20的激光防护图案130，引起了激光防护图案130的激光防护性能变差的问题。

发明内容

因此，本发明涉及一种激光图案掩模及其制造方法。

本发明的目的在于提供一种激光图案掩模及其制造方法，该掩模及其制造方法可避免在利用激光烧蚀工艺每次对母基板上的整个层进行构图时损坏激光图案掩模。

本发明的额外的优点、目的和特点中的一些将在随后的描述中进行阐述，而另一些将通过对下文的研究变得对于本领域技术人员来说是显而易见的或者可以通过实践本发明而获悉。本发明的目的和其他优点可以通过文字的说明书及其权利要求以及附图中特别指出的结构而实现和获得。

为了实现这些目的和其它优点以及根据本发明的目的，如在本文中所具体体现和广泛描述的，一种激光图案掩模包括基底基板、在基底基板上由不透明金属形成来限定激光光束通过区域的激光防护图案以及在包括激光防护图案的基底基板的整个表面上形成的保护膜。

所述不透明金属为选自于Al、Ag以及Au中的一种。

所述保护膜是由MgF₂或者SiO₂所形成。

在本发明的另一方面中，一种用于制造激光图案掩模的方法包括以下步骤：在基底基板上形成不透明金属的激光防护图案来限定激光光束通过区域，以及在包括激光防护图案的基底基板的整个表面上形成保护膜。