[发明专利]C7，C10修饰的1-去羟基紫杉醇类似物及其制备方法

权利要求书

1.一种C7，C10位修饰的1-去羟基紫杉醇类似物，其特征在于该类似物的结构式为：

其中R₁为C1-C8直链或支链烷基、C3-C6环烷基、苯基、含氮、硫或氧的五元或六元芳香环；R₂为C1-C8的直链或支链烷基或C3-C6环烷基。

2.权利要求1中的C7，C10位修饰的1-去羟基紫杉醇类似物，其特征是R₁为C3-C6的环状烷基或C1-C8链状烷基，任选被卤素、羟基、硝基、羧基、醛基、氰基、三氟甲基、氨基单取代或多取代。

3.权利要求2中的C7，C10位修饰的1-去羟基紫杉醇类似物，其特征是R₁为C3-C6的环状烷基或被氮、硫、氧或卤素取代的C3-C6的杂环，任选被卤素、羟基、硝基、羧基、醛基、氰基、氨基单取代或多取代。

4.权利要求3中的C7，C10位修饰的1-去羟基紫杉醇类似物，其特征是R₁为甲基、乙基、戊基、环丙基，任选被卤素单取代或多取代，所述卤素为氟、氯、溴、碘。

5.权利要求1中的C7，C10位修饰的1-去羟基紫杉醇类似物,其特征是R₁为被卤素、C1-C6链状烷基、羟基、硝基、羧基、醛基、C1-C6链状烷氧基、氰基、三氟甲基、氨基单取代或多取代的苯、吡啶、呋喃、噻吩、吡嗪、吡咯、吡唑、噻唑、嘧啶、哌啶。

6.权利要求5中的C7，C10位修饰的1-去羟基紫杉醇类似物，其特征是R₁为苯基、间溴苯基或5,6-二氯吡啶基。

7.权利要求1中的C7，C10位修饰的1-去羟基紫杉醇类似物，其特征是R₂为被卤素、羟基、硝基、羧基、醛基、C1-C6链状烷氧基、氰基、氨基单取代或多取代的C1-C8直链或支链烷基或C3-C6环烷基。

8.权利要求7中的C7，C10位修饰的1-去羟基紫杉醇类似物，其特征是R₂为甲基、乙基、氯代甲基、环丙基。

9.权利要求1中的C7，C10位修饰的1-去羟基紫杉醇类似物，其特征是具有如下结构：

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