[发明专利]盖构件，透镜装置和制造方法

权利要求书

1.一种被安置在光学部件前面的盖构件，所述盖构件包括：

中心部分；和

周边部分，所述周边部分包围所述中心部分，同时具有与所述中心部分毗连的台阶；其中

所述中心部分在与所述周边部分接界的那一侧的一部分形成为倾斜表面，并且所述倾斜表面的起点和终点中的每一个形成为弯曲表面，并且

所述盖构件具有涂布表面。

2.根据权利要求1所述的盖构件，所述盖构件还包括用于识别所述倾斜表面的位置的标记。

3.一种透镜装置，所述透镜装置包括：

成像透镜，其基于目标光形成图像；和

盖构件，其被安置在所述成像透镜前面，其中

所述盖构件包括：

中心部分；和

周边部分，所述周边部分包围所述中心部分，同时具有与所述中心部分毗连的台阶；其中

所述中心部分在与所述周边部分接界的那一侧的一部分形成为倾斜表面，并且所述倾斜表面的起点和终点中的每一个形成为弯曲表面，并且

所述盖构件具有涂布表面。

4.一种被安置在光学部件前面的盖构件的制造方法，所述制造方法包括：

形成盖构件基材，所述盖构件基材具有中心部分和周边部分，所述周边部分包围所述中心部分，同时具有与所述中心部分毗连的台阶，其中所述中心部分在与所述周边部分接界的那一侧的一部分形成为倾斜表面，并且所述倾斜表面的起点和终点中的每一个形成为弯曲表面；和

通过下列方式以膜状涂布材料涂布所述盖构件基材：将所述盖构件基材以所述倾斜表面朝下的姿势浸渍在液体形式的涂布材料中，并且从所述涂布材料中提起所述盖构件基材，从而使得附着于所述盖构件基材上的所述涂布材料凝固。

5.根据权利要求4所述的制造方法，其中：

所述形成盖构件基材是：形成除包括所述中心部分、所述周边部分和所述倾斜表面以外还包括涂布材料蓄积部的盖构件基材，所述涂布材料蓄积部被安置在当所述倾斜表面朝下时跨过所述周边部分低于所述倾斜表面的位置处，并且引导所述涂布材料沿所述倾斜表面和所述周边部分进一步向下流动，从而蓄积所述涂布材料，并且

所述制造方法还包括在所述涂布以后去除所述涂布材料蓄积部。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其中所述去除是：去除所述涂布材料蓄积部，同时在所述盖构件基材上留下所述涂布材料蓄积部的残断片，从而形成标记，所述标记由所述残断片形成并且用于识别所述倾斜表面。