[发明专利]盖构件，透镜装置和制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及盖构件(cover member)，具有所述盖构件的透镜装置，和制造所述盖构件的方法。 

背景技术

作为透镜装置的实例，其中结合透镜和成像器件的照相机组件(module)是已知的(参见，例如，日本专利申请公布2005-79931)。该照相机组件包括安置在拍摄图像的成像器件前面的透镜，并且取决于透镜组件例如在交通工具上安装的透镜组件的用途，还包括安置在透镜前面的透明盖。作为由这种照相机组件代表的透镜装置中的透镜和盖，归因于易生产性，广泛使用由树脂制成的那些透镜和盖代替由玻璃制成的那些透镜和盖。 

图1是示例透镜装置的一个实例的透视图。图1示例了其中为了易于理解透镜装置的内部结构而将透镜装置部分去除的状态。 

图1中示例的透镜装置10包括：安装(attach)到电路板11的成像器件12，基于目标光(subject light)而在成像器件12上形成图像的3个透镜13，支持透镜13的透镜支持构件14，固定到电路板11并且包围成像器件12和透镜支持构件14的基座(base)构件15，和保护透镜的盘状盖构件20，和装置外壳17。 

3个透镜13安置在成像器件12的前面，即，在目标侧，并且盖构件20安置在透镜13前面。透镜13和盖构件20由透明树脂材料形成。装置外壳17的形状近似为六面体，而电路板11，成像器件12，透镜13，透镜支持构件14，基座构件15和盖构件20嵌入装置外壳17中。然而，安装盖构件20以在内部封闭在装置外壳17的前表面中安置的孔17a，并且盖构件20的中心部分暴露在外部。此外，在盖构件20和装置外壳17之间，插入O形环18来防止透镜装置10受到水和灰尘的影响。 

盖构件20是代替透镜13暴露在外部的部件，因此，期望改进抵抗由外部异物所致的摩擦和碰撞的耐擦伤性能和抗裂性能。此处，已知的是，将透镜在液体形式的涂布材料中浸渍，然后从涂布材料提起，使得对透镜表面涂布硬涂层(例如，日本专利申请公布2000-189884和2000-210614)。 

图2A和图2B是示例在图1中所示的透镜装置中安置的常规盖构件的图。图2A是盖构件20的正视图，而图2B是示例盖构件20的中间部分的纵向截面的图。 

图2A和图2B中示例的盖构件20包括：透射在成像器件12上形成图像的光的中心部分211，和包围中心部分211的周边部分212。中心部分211和周边部分212由透明树脂材料整体模塑。在中心部分211和周边部分212之间，形成台阶(step)212a。由于在装置外壳17的孔17a的边缘上邻接盖构件20的台阶212a(参见图1)，确定了相对于装置外壳17的位置，并且防止了盖构件20的位移。 

此处，当对如图2A和图2B中所示的具有台阶形状的盖构件涂布涂层时，存在的可能性是产生由图2A和图2B中的附图标记22a所示的蓄积液(liquid pool)。附带地，在图2B中的横截面视图中，涂布材料22的厚度增大，从而容易看到在中心部分211的前表面上的涂布材料22的形状。 

换言之，假设将盖构件基材21浸渍在液体形式的涂布材料中，然后从涂布材料提起，存在的可能性是沿着盖构件基材21向下流动的涂布材料在台阶212a的拐角上部蓄积，从而导致蓄积液22a，从而在中心部分211的涂布材料的厚度方面，形成蓄积液22a的部分厚于其余部分。在此情况下，当用于在成像器件12上形成图像的光通过形成蓄积液22a的部分时，光的方向被干扰，从而在形成的图像中产生扭曲(distortion)。 

发明内容

本发明的目的是解决上述问题并且提供一种其中抑制对通过光的干扰的盖构件，一种包括所述盖构件的透镜装置，和一种制造所述盖构件的方法。 

根据本发明的第一方面，一种被安置在光学部件前面的盖构件包括： 

中心部分；和 

周边部分，所述周边部分包围所述中心部分，同时具有与所述中心部分毗连(border)的台阶；其中 

所述中心部分在与所述周边部分接界的那一侧的一部分形成为倾斜表面，并且所述倾斜表面的起点和终点中的每一个形成为弯曲表面，并且 

所述盖构件具有涂布表面。