[发明专利]镀膜件及其制造方法无效
| 申请号： | 201010614911.5 | 申请日： | 2010-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102534489A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;林顺茂 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
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| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制造 方法 | ||
1.一种镀膜件，包括基材及形成于基材表面的硬质层，其特征在于：该硬质层为添加有M和R的锆层，其中M为铁、钴、镍、铜、铌、铪及钽的一种或一种以上，R为钪、钇及镧系中的一种或一种以上。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述基材为不锈钢、铝合金、镁合金、玻璃、陶瓷或塑料。
3.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述硬质层中M的质量百分含量为10～49.5％，R的质量百分含量为0.5～10％。
4.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述硬质层以磁控溅射的方式形成。
5.一种镀膜件的制造方法，其包括如下步骤：
提供一基材及以一设有含有M、R和锆的靶材的磁控溅射镀膜机，其中M为铁、钴、镍、铜、铌、铪及钽的一种或一种以上，R为钪、钇及镧系中的一种或一种以上；
由磁控溅射镀膜机在基材表面形成硬质层，该硬质层为添加有M和R的锆层。
6.如权利要求5所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：其中M的质量百分含量为10～49.5％，R的质量百分含量为0.5～10％。
7.如权利要求5所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：所述形成硬质层的工艺参数为：所述靶材的功率为5～15KW，以氩气为工作气体，氩气的流量为100～400sccm，对基材施加的偏压为-50～-200V，占空比为50％，镀膜时间为20～90min。
8.如权利要求5或7所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：所述基材为不锈钢、铝合金、镁合金或玻璃。
9.如权利要求8所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：所述磁控溅射的镀膜温度为100～200℃。
10.如权利要求5或7所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：所述基材为塑料。
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