[发明专利]一种MVA像素结构和MVA液晶显示装置有效
申请号: | 201010615688.6 | 申请日: | 2010-12-27 |
公开(公告)号: | CN102540535A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 马骏;罗熙曦 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1365;G02F1/139 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201201 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 mva 像素 结构 液晶 显示装置 | ||
1.一种MVA像素结构,设置于一基板上,其特征在于,所述MVA像素结构包括:至少两个透明导电块,所述透明导电块与所述基板之间设置有绝缘层,所述绝缘层具有第一过孔,所述各透明导电块之间通过所述第一过孔用导电材料进行电连接。
2.根据权利要求1所述的MVA像素结构,其特征在于,所述绝缘层包括栅极绝缘层与钝化层。
3.根据权利要求2所述的MVA像素结构,其特征在于,所述MVA像素结构还包括作为像素开关的薄膜晶体管,所述第一过孔贯通所述钝化层,所述导电材料为源/漏极金属,所述源/漏极金属与所述薄膜晶体管源漏极的材料相同并处于同一层中。
4.根据权利要求3所述的MVA像素结构,其特征在于,所述薄膜晶体管的源/漏极通过所述第一过孔与所述透明导电块连接;或者所述薄膜晶体管的源/漏极直接与所述导电材料连接。
5.根据权利要求3所述的MVA像素结构,其特征在于,所述MVA像素结构还包括与所述导电材料交叠产生存储电容的公共电极。
6.根据权利要求5所述的MVA像素结构,其特征在于,相邻所述透明导电块之间的间隙区域生成有存储电容。
7.根据权利要求2所述的MVA像素结构,其特征在于,所述MVA像素结构还包括作为像素开关的薄膜晶体管,所述第一过孔贯通所述钝化层与所述栅极绝缘层,所述导电材料为栅极金属,所述栅极金属与所述薄膜晶体管栅极的材料相同并处于同一层中。
8.根据权利要求7所述的MVA像素结构,其特征在于,所述薄膜晶体管的源/漏极通过所述第一过孔与所述透明导电块连接;或者所述薄膜晶体管的源/漏极通过第二过孔与所述导电材料连接。
9.根据权利要求1所述的MVA像素结构,其特征在于,所述MVA像素结构还包括一设置于彩色滤光片侧的突起,所述突起与所述第一过孔正对设置。
10.一种MVA液晶显示装置,包括根据权利要求1-9中任一项所述的MVA像素结构。
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