[发明专利]具有导电膜层的基板组合及其制造方法

权利要求书

1.一种具有导电膜层的基板组合，包括：

高分子基底；

表面处理层，设置于该高分子基底上；以及

导电膜层，设置于该表面处理层上，

其中该表面处理层为辅助烧结填充材料与高分子的复合材料，该导电膜层是由金属导电油墨烧结而成，且该表面处理层中的该辅助烧结填充材料具有能量传导特性，辅助传递能量至该金属导电油墨。

2.如权利要求1所述的具有导电膜层的基板组合，其中该高分子基底的材料包括热塑性高分子、热固性高分子或前述的组合，且该高分子基底的绝缘面电阻为10¹⁴Ω/sq至10¹⁶Ω/sq，该高分子基底的玻璃态转变温度为80℃至160℃。

3.如权利要求2所述的具有导电膜层的基板组合，其中该高分子基底的材料包括聚酯类高分子、聚丙烯酸类酸类高分子、聚碳酸酯类高分子、环氧树脂类高分子或聚氨酯类高分子，且其中该聚酯类高分子包括聚对苯二甲酸乙二醇酯。

4.如权利要求1所述的具有导电膜层的基板组合，其中该辅助烧结填充材料在该表面处理层中的重量比例为0.01wt％至5wt％，且该辅助烧结填充材料选自于纳米管、纳米球、碳材料及黏土。

5.如权利要求4所述的具有导电膜层的基板组合，其中该纳米管包括单壁碳纳米管、多壁碳纳米管或前述的组合，该纳米球包括碳纳米球，该碳材料包括石墨或氧化石墨，且该黏土选自于化学周期表上第IA族氧化物、第IIA族氧化物及第IVA族氧化物组成的黏土复合物。

6.如权利要求1所述的具有导电膜层的基板组合，其中该表面处理层中的该高分子包括热塑性高分子、热固性高分子或前述的组合。

7.如权利要求1所述的具有导电膜层的基板组合，其中该表面处理层中的该高分子的玻璃态转变温度为75℃至200℃。

8.如权利要求7所述的具有导电膜层的基板组合，其中该高分子选自于丙烯酸类树脂、聚丙烯酸类、聚乙烯醇及聚碳酸酯。

9.如权利要求1所述的具有导电膜层的基板组合，其中该金属导电油墨的组成包括金属有机化合物与溶剂的组合，或金属有机化合物、金属粉体与溶剂的组合，且该金属有机化合物在该金属导电油墨中的重量比例为25wt％至60wt％。

10.如权利要求9所述的具有导电膜层的基板组合，其中该有机金属化合物的化学结构为(RCOO)_yM^(y)，且其中R为直链或支链的C_nH_2n+1，n为5～20的整数；M为金属，其选自于铜、银、金、铝、钛、镍、锡、铂和钯；y为金属的价数。

11.如权利要求9所述的具有导电膜层的基板组合，其中该金属粉体的尺寸小于500nm，且该金属粉体选自于铜、银、金、铝、钛、镍、锡、铂和钯，该溶剂选自于二甲苯、甲苯及萜品醇。

12.一种具有导电膜层的基板组合的制造方法，包括：

提供高分子基底；

将含有辅助烧结填充材料与高分子的混合物涂布于该高分子基底上；

将该导电填充材料与高分子的混合物固化，形成表面处理层；

将金属导电油墨涂布于该表面处理层上；以及

施加第一能量源，并辅助施加第二能量源，使该金属导电油墨烧结，形成导电膜层，其中该表面处理层中的该辅助烧结填充材料具有能量传导特性，辅助传递该第一能量源与该第二能量源的能量至该金属导电油墨。

13.如权利要求12所述的具有导电膜层的基板组合的制造方法，其中该第一能量源与该第二能量源选自于热、光、能量波以及激光，且该第一能量源与该第二能量源不同，该第一能量源的温度范围为90℃至150℃。

14.如权利要求13所述的具有导电膜层的基板组合的制造方法，其中该具有能量的光选自于紫外光、近红外光、中红外光以及远红外光，该能量波包括波长300MHz至300GHz的微波，该激光选自于气态激光、固态激光以及液态激光。

15.如权利要求12所述的具有导电膜层的基板组合的制造方法，其中该辅助烧结填充材料与高分子的混合物，以及该金属导电油墨是以湿法涂布制程进行涂布的。