[发明专利]渐逝波激发半导体量子点光纤放大器及其制备方法有效
申请号: | 201010616555.0 | 申请日: | 2010-12-31 |
公开(公告)号: | CN102096272A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 庞拂飞;刘伦刚;邢洁雯;郭海润;王廷云;曾祥龙 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | G02F1/39 | 分类号: | G02F1/39;G02B6/02 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 何文欣 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 渐逝波 激发 半导体 量子 光纤 放大器 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明述及一种渐逝波激发半导体量子点光纤放大器及其制备方法,属于光纤通信技术和纳米材料技术领域。
背景技术
作为光纤通信系统的核心器件,光纤放大器一直是该领域的研究热点,现有的光纤放大器主要包括稀土掺杂光纤放大器和半导体光放大器。随着光纤通信容量的日益增大,上述两类光放大器日渐显出各自的局限性。稀土掺杂光纤放大器存在放大宽带窄、使用光纤长、增益波段固定等不足;半导体光放大器存在温度稳定性差、噪声大、存在偏振相关性、需要复杂的光纤-波导耦合工艺等不足。因此,在未来高速、密集波分复用光纤通信系统中,需要能够实现宽带宽、快速响应的光纤放大器。基于半导体量子点作为有源介质实现光放大,可以获得大于100nm的放大带宽,利用量子尺寸效应可以调节对光放大波段,从而可以实现覆盖850nm、1310nm以及1550nm全部光纤通信波段。
目前,半导体量子点光纤放大器主要有两种制备技术,一种是基于改进化学气相沉积技术,它直接将半导体量子点材料掺入到石英光纤中(Pramod R. Watekar,1537 nm Emission Upon 980 nm Pumping in PbSe Quantum Dots Doped Optical Fiber,OFC/NFOEC,2008),然而,这种应用于光纤放大器的量子点掺杂光纤制备工艺中存在量子点材料易于高温分解、尺寸和分散性难于控制等问题。另一种是基于光纤耦合器与量子点相结合的光纤放大器(中国发明专利,申请号为200610116368.X),这种放大器存在的问题是对于光纤耦合器的分光比设计比较严格,而且涂覆材料很容易影响其分光比,因此,需要复杂的设计过程以及严格控制的制备工艺。
发明内容
本发明的目的在于针对已有光纤放大器的不足,提出一种渐逝波激发半导体量子点光纤放大器及其制备方法,该放大器具有放大带宽大、光放大波段易调节、光放大效率高、全光纤结构、放大光纤尺寸短等优点,可用于长距离、大容量、高速率的通信系统,光接入网,光纤CATV网,FTTH和光纤传感等领域。
为达到上述目的,本发明采用下述技术方案:
一种渐逝波激发半导体量子点光纤放大器,包括一个泵浦光源、一个信号光源、一个波分复用器和一个光纤放大器,所述泵浦光源和信号光源分别通过光纤连接波分复用器的两个输入端,波分复用器的输出端连接光纤放大器的输入端,其特征在于:所述光纤放大器是一段锥形光纤,该锥形光纤表面涂覆一层半导体量子点薄膜层,所述的量子点薄膜层材料折射率低于锥形光纤的材料折射率,从而使在锥形光纤中传输的光波能通过渐逝波激发半导体量子点薄膜层释放出光子,实现信号光放大。
所述的量子点薄膜层为硫化铅PbS掺杂溶胶-凝胶薄膜,其中的硫化铅PbS溶胶为PbS掺杂的二氧化硅溶胶。
一种渐逝波激发半导体量子点光纤放大器制备方法,用于制备根据权利要求1所述的渐逝波激发半导体量子点光纤放大器,其特征在于制备工艺特点如下:
(1)锥形光纤的制作:对单模光纤进行加热,基于熔融拉锥工艺拉制成锥形光纤;
(2)制备半导体量子点材料:
① 采用溶胶-凝胶工艺制备掺有甲基的二氧化硅溶胶。以正硅酸四乙酯和甲基三乙氧基硅烷为前躯体,在酸性环境下进行水解缩聚反应。具体工艺是将正硅酸四乙酯、甲基三乙氧基硅烷、乙醇、盐酸水溶液混合,其具体配比为正硅酸四乙酯/甲基三乙氧基硅烷/乙醇 =1/4/8,盐酸水溶液浓度为0.04mol/L。利用恒温磁力搅拌器搅拌混合溶液,采用油浴保持反应温度50摄氏度,反应时间24h,反应后得到无色澄清的溶胶。
② 在上述制备的二氧化硅溶胶中,利用胶体化学工艺制备PbS量子点。将乙酸铅溶入到甲醇中,滴入乙酸作为催化剂,加入三巯基丙基三甲氧基硅烷硅烷偶联剂作为表面活性剂,具体配比为乙酸铅/甲醇/乙酸/三巯基丙基三甲氧基硅烷= 1:100:3.5:0.5,由此获得铅盐溶液。然后,将该溶液逐步滴加至二氧化硅溶胶中,利用磁力搅拌使其均匀混合。之后,以硫代乙酰胺提供硫源,溶解于甲醇溶剂中,并将其逐步滴加至含有铅离子的二氧化硅溶胶中,其中,铅和硫的摩尔比为1:1。在滴加过程中,可以观察到溶液颜色由浅黄色逐渐变为橙红色、红色、最终变为深红棕色,这说明在二氧化硅溶胶中逐步有PbS生成。
③ 为了获得粒子均匀分散的量子点掺杂材料,将PbS掺杂的二氧化硅溶胶放入高速离心机中进行离心,离心速度为10000rpm,离心时间15min。
(3)制备的半导体量子点材料:
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