[发明专利]掩模版的固定装置及其固定方法

权利要求书

1.一种掩模版的固定装置，所述掩膜版包括至少3个第一导磁部，其特征是，包括：

承载部，承载所述掩膜版；以及

至少3个吸附模块，固定于所述承载部，每个所述吸附模块与所述第一导磁部的位置一一对应，每个所述吸附模块包括：

电磁铁，当所述电磁铁通电时，产生磁场将所述第一导磁部吸附在所述承载部上。

2.根据权利要求1所述的掩模版的固定装置，其特征是，还包括第二导磁部，环绕所述电磁铁。

3.根据权利要求1所述的掩模版的固定装置，其特征是，当所述第一导磁部吸附在所述承载部上时，所述吸附模块与所述第一导磁部的距离为0.1mm-0.2mm。

4.根据权利要求1所述的掩模版的固定装置，其特征是，所述第一导磁部为镶嵌在所述掩膜版版周围的导磁材料形成。

5.根据权利要求1所述的掩模版的固定装置，其特征是，所述第一导磁部的厚度为1.5mm-2.5mm。

6.一种掩模版的固定装置，所述掩膜版包括至少3个第一导磁部，其特征是，包括：

承载部，承载所述掩膜版；以及

至少3个吸附模块，对应于所述第一导磁部，每个所述吸附模块包括：

第一磁铁；以及

第二磁铁，所述第一磁铁或第二磁铁可改变磁极方向，当所述第一磁铁和第二磁铁磁极方向相同时，产生磁场将所述第一导磁部吸附在所述承载部上。

7.根据权利要求6所述的掩模版的固定装置，其特征是，还包括第二导磁部，环绕所述第一磁铁和第二磁铁。

8.根据权利要求6所述的掩模版的固定装置，其特征是，所述第一磁铁或第二磁铁可旋转地安装在所述吸附模块上。

9.根据权利要求6所述的掩模版的固定装置，其特征是，所述第一磁铁或/和第二磁铁为电磁铁。

10.根据权利要求6所述的掩模版的固定装置，其特征是，所述固定装置还包括第三导磁部，所述第一磁铁和第二磁铁固定安装在所述第三导磁部上。

11.根据权利要求6所述的掩模版的固定装置，其特征是，所述第一导磁部为镶嵌在所述掩膜版周围导磁材料形成。

12.根据权利要求6所述的掩模版的固定装置，其特征是，所述第一导磁部的厚度为1.5mm-2.5mm。

13.根据权利要求6所述的掩模版的固定装置，其特征是，还包括带动磁铁旋转的驱动装置。

14.根据权利要求6所述的掩模版的固定装置，其特征是，所述第一磁铁或/和第二磁铁为永磁铁。

15.根据权利要求9所述的掩模版的固定装置，其特征是，改变电磁铁的电流方向，可以实现所述掩模版的吸附和脱开。

16.一种掩膜版的固定方法，应用于掩膜版的固定装置中，所述掩膜版包括至少3个第一导磁部，固定装置包括承载部承载所述掩膜版，还包括至少3个固定于所述承载部的吸附模块，每个所述吸附模块包括电磁铁，所述固定方法包括以下步骤：

将所述掩膜版放置在所述承载部上，其中所述第一导磁部的位置一一对应于所述吸附模块；以及

将所述电磁铁通电，产生磁场将所述第一导磁部吸附在所述承载部上。

17.一种掩膜版的固定方法，应用于掩膜版的固定装置中，所述掩膜版包括至少3个第一导磁部，固定装置包括承载部承载所述掩膜版，还包括至少3个固定于所述承载部的吸附模块，每个所述吸附模块包括第一磁铁和第二磁铁，其中所述第一磁铁或第二磁铁可改变磁极方向，所述固定方法包括以下步骤：

将所述掩膜版放置在所述承载部上，其中所述第一导磁部的位置一一对应于所述吸附模块；以及

将所述第一磁铁和第二磁铁设置为磁极方向相同，产生磁场将所述第一导磁部吸附在所述承载部上。

18.根据权利要求17所述的掩模版的固定方法，其特征是，改变所述第一磁铁或第二磁铁的磁极方向的步骤为：旋转所述第一或第二磁铁。

19.根据权利要求17所述的掩模版的固定方法，其特征是，改变所述第一磁铁或第二磁铁的磁极方向的步骤为：所述第一磁铁或/和第二磁铁为电磁铁，改变所述第一或第二磁铁的通电方向。