[发明专利]掩模版的固定装置及其固定方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种固定装置，且特别涉及一种掩模版的固定装置，掩膜版的固定方法也一并涉及。

背景技术

光刻设备是一种将掩模图案曝光成像到硅片上的设备。已知的光刻设备包括步进重复式和步进扫描式。在上述的光刻设备中，需具有相应的装置作为掩模版和硅片的载体，装载有掩模版/硅片的载体产生精确的相互运动来满足光刻需要。上述掩模版的载体被称之为承版台，硅片的载体被称之为承片台。承版台和承片台分别位于光刻设备的掩模台分系统和工件台分系统中，为上述分系统的核心模块。在承版台和承片台的相互运动中，须保证掩模版和硅片始终被可靠地定位，也即上述掩模版和硅片的六个自由度皆被限制住。

掩模版在固定过程中产生的变形误差直接影响了芯片制作的好坏，高端光刻机都要求掩模版在夹持力下的变形为纳米级别，因此如何解决掩模版在夹持力下产生的变形攸关重要。

在承版台的模块中，掩模版的固定方式目前有机械加紧式和真空吸附式，机械加紧式固定精度较低，并且可以能引起掩模版的变形较大，适用于较低端的光刻机。真空吸附方式容易漏气，且由于承版台的夹具(chuck)较大，真空管道细长，夹具由是一种非常特殊的材料制造，因此在夹具上面加工细长的孔有很大的难度。

在美国专利公开号US20040178362A1中，图1所示为先前技术的固定装置结构示意图。支撑台12包括销18，膜16与中间支撑16通过静电吸附，中间支撑14通过销18支撑。版10与中间支撑14之间通过表面24上的突起22固定垂向位置，由静电提供吸附力。

此种方法可以固定版10，但控制静电力难度较大；并且存在中间支撑14，增加了膜16的静电载荷。由于掩模版在工作时做高加速运动，有较大的切力的存在，使膜易损坏。此发明没有针对掩模版的固定而发明，而是通用的版件固定，由于掩模版上面有掩模，中间支撑14必须为中间为空腔，其实现难度较大。

发明内容

本发明提出一种掩膜版的固定装置，通过磁力吸附的方式将掩膜版固定在固定装置上，制作简单，使用可靠，控制方便。

为了达到上述目的，本发明提出一种掩模版的固定装置，掩膜版包括至少3个第一导磁部，包括：

承载部，承载掩膜版；以及

至少3个吸附模块，固定于承载部，每个吸附模块于第一导磁部的位置一一对应，每个吸附模块包括电磁铁，当电磁铁通电时，产生磁场将第一导磁部吸附在承载部上。

进一步说，固定装置还包括第二导磁部，环绕电磁铁。

进一步说，当第一导磁部吸附在承载部上时，吸附模块与第一导磁部的距离为0.1mm-0.2mm。

进一步说，第一导磁部为镶嵌在掩膜版周围的导磁材料形成。

进一步说，第一导磁部的厚度为1.5mm-2.5mm。

本发明还提供一种掩模版的固定装置，掩膜版包括至少3个第一导磁部，包括：

承载部，承载掩膜版；以及

至少3个吸附模块，对应于多个第一导磁部，每个吸附模块包括：

第一磁铁；以及

第二磁铁，第一磁铁或第二磁铁可改变各自磁极方向，当第一磁铁和第二磁铁磁极方向相同时，产生磁场将第一导磁部吸附在承载部上。

进一步说，固定装置还包括第二导磁部，环绕第一磁铁和第二磁铁。

进一步说，第一磁铁或第二磁铁可旋转地安装在吸附模块上。

进一步说，第一磁铁或/和第二磁铁为电磁铁。

进一步说，固定装置还包括第三导磁部，第一磁铁和第二磁铁固定安装在第三导磁部上。

本发明还提供一种掩膜版的固定方法，应用于掩膜版的固定装置中，掩膜版包括至少3个第一导磁部，固定装置包括承载部承载掩膜版，还包括至少3个固定于承载部的吸附模块，每个吸附模块包括电磁铁，固定方法包括以下步骤：

将掩膜版放置在承载部上，其中第一导磁部的位置一一对应于吸附模块；以及

将电磁铁通电，产生磁场将第一导磁部吸附在承载部上。

本发明还提供一种掩膜版的固定方法，应用于掩膜版的固定装置中，掩膜版包括至少3个第一导磁部，固定装置包括承载部承载掩膜版，还包括至少3个固定于承载部的吸附模块，每个吸附模块包括第一磁铁和第二磁铁，其中第一磁铁或第二磁铁可改变磁极方向，固定方法包括以下步骤：

将掩膜版放置在承载部上，其中第一导磁部的位置一一对应于吸附模块；以及

将第一磁铁和第二磁铁设置为磁极方向相同，产生磁场将第一导磁部吸附在承载部上。