[发明专利]光刻设备及测量多光斑零位偏差的方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

光源，用以提供曝光光束；

投影系统，用以将所述位于掩模板上的图形投影在基板上；

工件台系统，用以移动所述基板；

调焦调平系统，用以测量所述基板的垂向位置和倾向角度；

其特征在于，所述光刻设备还包括一反射镜和一激光干涉仪，所述激光干涉仪的光轴与所述反射镜的反射面相垂直，所述反射镜的反射面与所述投影系统的最佳焦平面平行。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述调焦调平系统产生至少两个测量光斑。

3.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述反射镜的反射面与所述投影系统的最佳焦平面处于同一平面。

4.一种测量多光斑零位偏差的方法，包括：利用调焦调平系统，生成并测量硅片上光斑S₁在A点相对于所述最佳焦平面的垂向高度值h₁，工件台水平移动使光斑S₂位于A点，获得S₂在A点相对于所述最佳焦平面的垂向高度值h₂，以相同的方式完成全部光斑S_i在A点相对于所述最佳焦平面的垂向高度值hi，以其中一个光斑S_n的垂向高度测量值h_n作为参考高度，其余光斑S_j的垂向高度测量值h_j相对该光斑垂向高度测量值之差(h_j-h_n)即为其余各光斑的零位偏差值，则S_n的零位偏差值为0；其中，所述A点可以是任一光斑所在的测试点。

5.根据权利要求4所述的测量多光斑零位偏差的方法，其特征在于，还包括利用所述调焦调平系统对所述工件台上的硅片进行全局调平。

6.根据权利要求4所述的测量多光斑零位偏差的方法，其特征在于，还包括对激光干涉仪的测校与调整，使得所述反射镜的反射面与所述投影物镜的最佳焦平面相互平行。

7.如权利要求4所述的测量多光斑零位偏差的方法，其特征在于，所述工件台水平移动时通过一反射镜和一激光干涉仪实现垂向高度不变，所述激光干涉仪的光轴与所述反射镜的反射面相垂直。

8.如权利要求6所述的测量多光斑零位偏差的方法，其特征在于，所述反射镜的反射面与所述投影系统的最佳焦平面处于同一平面。

9.如权利要求4所述的测量多光斑零位偏差的方法，其特征在于，所述调焦调平系统产生至少两个测量光斑。