[发明专利]一种金属有机物化学气相沉积设备的载盘支撑

说明书

技术领域

本发明涉及化学气相沉积设备，尤其是涉及到一种金属有机物化学气相沉积设备(MOCVD)的载盘支撑。

背景技术

MOCVD是利用金属有机化合物为源物质的一种化学气相沉积(CVD)工艺，也是一种工业化的经济实用技术。其生长原理是：在一块加热适当温度的载盘上放置一定数量的衬底，将含有III和V族元素的气态化合物有控制的输送到衬底表面，生长出有特定组分、特定厚度、特定电学和光学参数的薄膜沉积材料。

载盘一般为密度较大石墨制作，所以载盘支撑必须具有一定的厚度才能够保证支撑受力。常规的载盘支撑装置为一个整体，在生长温度变化过程中(常温和1000℃以上)，载盘支撑容易产生形变，从而影响载盘的平面度，进而导致生产质量。另外一个整体的载盘传热性较好，将其内侧加热器的热量较多的辐射到外侧的腔壁上，造成能热量损失和冷却需求的增加。

另外载盘支撑的直径一般在400mm以上，大多采用稀有金属，如钨、钼等，价格非常昂贵，较厚载盘支撑(一般为圆形)一般采用一整块方形材料，通过车(外形)、镗(内部镂空)等加工工序，加工工序复杂，材料浪费也非常严重；而如果在保证支撑受力的前提下，采用较薄的载盘支撑则可以用一块板型材料，通过滚轧、焊接、整形的简单工艺实现。

发明内容

本发明的目的在于提供一种金属有机物化学气相沉积设备的载盘支撑，使加热的利用效率提高，降低腔壁的冷却需求，简化载盘支撑的加工工序，降低成本。

本发明的目的是这样实现的：载盘支撑采用多层支撑薄板组成，在多层薄板的周向方向上均匀的安装有支撑连接，支撑连接不仅保证了多层支撑之间的间距，也使它们形成一个整体，也就是载盘支撑。

载盘支撑安装在腔体底盘上，俯视图上看其为多角形或圆形，所以可以不需要另外的固定装置或措施直接放置在安装位置上。载盘支撑的上方安装有支撑垫块，这也在一定程度上保证了载盘支撑的强度，另外增大了载盘支撑和载盘的接触面。

载盘支撑、载盘、腔体底盘、支撑垫块为加热器形成了一个封闭的空间，而上方的载盘为加热对象，这样避免了热量向外部传导或直接辐射。而由多层薄板组成的载盘支撑，由于薄板之间均由气体组成，而气体的隔热性极好，所以载盘支撑又成为了非常好的隔热屏。一方面减少了加热器热量的损失，使更多热量辐射到加热目标-载盘上，另一方面，载盘支撑外部的腔壁由于受到的热量辐射减少，对冷却的需求也随之降低。

附图说明

图1为本发明的的剖面图；

图2为本发明中支撑垫块示意图；

图3为本发明中支撑连接的剖面图。

具体实施方式

下面结合实例实施并对照附图对本发明作进一步详细说明。

本发明包括腔体底盘(1)、腔壁(2)、多层载盘支撑(3)、支撑垫块(4)、支撑连接(5)、载盘(6)、加热器(7)。如图1所示，多层载盘支撑(3)、加热器(7)安装在腔体底盘(1)上；支撑垫块(4)安装在多层载盘支撑(3)上方，载盘(6)则放置其上；多层载盘支撑(3)处于腔壁(2)和加热器(7)之间；多层载盘支撑的每层通过支撑连接(5)连接和固定。

图1所示的三层载盘支撑每层采用钼材料加工制成，厚度为0.5mm，由加工商将厚度为0.5mm的钼板滚轧，焊接，最后整形而成。三层钼板之间通过图2所示的支撑连接(5)保证在径向方向的固定，同时保证层与层之间的间距。

支撑垫块(4)和载盘支撑(3)面为凹面，约束了最外层和最内层的相对位置，和载盘(6)的接触面则为平面，增大了接触面，使得整个载盘在使用过程中更为平稳。