[发明专利]彩色等离子显示屏用MgO保护层的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及气体辉光放电技术领域，更具体地，涉及一种彩色等离子显示屏用MgO保护层的制备方法。

背景技术

目前，彩色等离子显示屏的前基板上的介质保护层一般为MgO薄膜，其常规的制备方法是在富氧气氛中采用电子束蒸发MgO颗粒的方法制备。该方法制备的MgO薄膜表面非常致密，不易产生二次电子和储存电荷，从而造成PDP屏放电时的放电延迟时间增加，影响了PDP屏的电气性能。

发明内容

本发明旨在提供一种可以降低PDP屏的放电延迟时间，并且易于实现的彩色等离子显示屏用MgO保护层的制备方法。

根据本发明的一种彩色等离子显示屏用MgO保护层的制备方法，在富氧气氛中，在彩色等离子显示屏的玻璃基板上在介质层上蒸镀厚度为600-800nm的薄膜保护层，然后在其上采用等离子体喷涂技术再沉积一层单位面积覆盖率为5％～80％，粒径为30-500nm的MgO颗粒层。

进一步地，薄膜保护层由MgO构成。

优选地，所述MgO颗粒层的单位面积覆盖率为5％至40％，粒径为30-300nm。

优选地，所述MgO颗粒层的单位面积覆盖率为10％至40％，粒径为80-300nm。

优选地，所述MgO颗粒层的单位面积覆盖率为10％至30％，粒径为80-200nm。

优选地，所述MgO颗粒层的单位面积覆盖率为15％至20％，粒径为100-150nm。

优选地，所述MgO颗粒层的单位面积覆盖率为约15至18％，粒径为100-150nm。

进一步地，玻璃基板上制备有ITO透明电极、BUS电极和介质层。

进一步地，薄膜保护层设置在彩色等离子显示屏的前基板中。

采用本发明的彩色等离子显示屏用MgO保护层的制备方法，在彩色等离子显示屏的玻璃基板上在介质层上蒸镀厚度为600-800nm的薄膜保护层，然后在其上采用等离子体喷涂技术再沉积一层相对疏松的MgO颗粒层。此制备方法一方面保护电极和介质层免受惰性气体辉光放电产生的等离子体的轰击，从而提高PDP的使用寿命；另一方面可以降低放电延迟时间，并且提供一定的受激发的二次电子，从而降低着火电压，从而提高PDP屏的电气性能。其中，采用P彩色层的同厚度的介质层。

附图说明

图1示出了彩色等离子显示屏的前基板的结构示意图。

具体实施方式

在本发明的一个具体实施方式中，提供了一种彩色等离子显示屏用MgO保护层的制备方法，在富氧气氛中，在彩色等离子显示屏的玻璃基板上在介质层上蒸镀厚度为600-800nm的薄膜保护层，然后在其上采用等离子体喷涂技术再沉积一层单位面积覆盖率为5％～80％，粒径为30-500nm的MgO颗粒层。

在一个优选实施方式中，薄膜保护层由MgO构成。

在一个更优选实施方式中，所述MgO颗粒层的单位面积覆盖率为5％至40％，粒径为30-300nm。

在另一个更优选实施方式中，所述MgO颗粒层的单位面积覆盖率为10％至40％，粒径为80-300nm。

在又一个优选实施方式中，所述MgO颗粒层的单位面积覆盖率为10％至30％，粒径为80-200nm。

在另一个优选实施方式中，所述MgO颗粒层的单位面积覆盖率为15％至20％，粒径为100-150nm。

在又一个优选实施方式中，所述MgO颗粒层的单位面积覆盖率为约15至18％，粒径为100-150nm。

在一个优选实施方式中，玻璃基板上制备有ITO透明电极、BUS电极和介质层。

在一个优选实施方式中，，薄膜保护层设置在彩色等离子显示屏的前基板中。

下面将结合实施例和比较例，来详细说明本发明。以下采用等离子体喷涂技术再沉积的MgO颗粒层的粒径为MgO颗粒层的平均粒径或中值粒径。

在介质层上蒸镀的厚度为600-800nm的薄膜保护层，即第一层MgO保护层，使用日本真空株式会社的EIH-135型真空蒸镀机进行涂覆。

MgO颗粒层喷涂使用北京新迪表面技术设备有限公司的CMD-PA60型等离子喷涂设备进行涂覆。

在制备有ITO透明电极、BUS电极和介质层的彩色等离子显示屏的玻璃基板上，在氧分压为1～10Pa的富氧气氛条件下，在该玻璃基板上的介质层上蒸镀厚度为600-800nm的MgO薄膜保护层，然后在其上采用等离子体喷涂技术再沉积一层单位面积覆盖率为5％～80％，粒径为30-500nm的MgO颗粒层。

对于包含由此制得的前基板的彩色等离子显示屏测试其放电延迟、着火电压、以及寿命等性能。