[发明专利]一种用于曝光机对准的光罩及光罩对准标记制作方法

权利要求书

1.一种用于曝光机对准的光罩，其特征在于，所述光罩包括：

第一组对准标记，第二组对准标记和第三组对准标记中的至少两组，其中，

所述第一组对准标记包括Rx1、Ry1和Rθ1，其中Rx1位于经过所述光罩中心点的纵轴的负半轴，并且距离所述中心点54毫米，Ry1位于经过所述光罩中心点的横轴的负半轴，距离所述中心点53毫米，Rθ1位于经过所述光罩中心点的横轴的正半轴，距离所述中心点53毫米，

所述第二组对准标记包括Rx2、Ry2和Rθ2，其中Rx2位于经过所述光罩中心点的纵轴的负半轴，并且距离所述中心点52毫米，Ry2位于经过所述光罩中心点的横轴的负半轴，距离所述中心点43毫米，Rθ2位于经过所述光罩中心点的横轴的正半轴，距离所述中心点43毫米，

所述第三组对准标记包括Rx3、Ry2、X和Y，其中Rx3位于经过所述光罩中心点的纵轴的正半轴，并且距离所述中心点52毫米，X位于经过所述光罩中心点的纵轴的负半轴，距离所述中心点50毫米，Y位于经过所述光罩中心点的横轴的正半轴，距离所述中心点40.5毫米。

2.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述对准标记Ry1、Ry2及Rθ1位于其所对应的对准区域内；

每个对准区域为以对应的对准标记为中心点的正方形区域，该正方形区域的边长为5000微米，误差为正负100微米；

该对准标记相对中心点的横向误差和纵向误差为20加减0.5微米。

3.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述对准标记Rθ2位于其所对应的对准区域内；

该对准区域为以该对准标记Rθ2为中心点的矩形区域，该矩形区域的长为4500微米，误差为正负100微米，宽为5000微米，误差为正负100微米；

该对准标记Rθ2相对中心点的横向误差和纵向误差为20加减0.5微米。

4.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述对准标记Rx1位于其所对应的对准区域内；

该对准区域为以该对准标记Rx1为中心点的正方形区域，该正方形区域的边长为5000微米，误差为正负100微米；

该对准标记Rx1相对中心点的横向误差和纵向误差为20加减0.5微米。

5.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述对准标记Rx2位于其所对应的对准区域内；

该对准区域为以该对准标记Rx2为中心点的矩形区域，该矩形区域的长为5000微米，误差为正负100微米，宽为4000微米，误差为正负100微米；

该对准标记Rx2相对中心点的横向误差和纵向误差为20加减0.5微米。

6.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述对准标记Rx3位于其所对应的对准区域内；

该对准区域为以该对准标记Rx3为中心点的正方形区域，该正方形区域的边长为5000微米，误差为正负100微米；

该对准标记相对中心点的纵向误差为20加减0.5微米。

7.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述对准标记X包括以经过中心点的纵轴为中心的，间距为28微米的两条平行于纵轴的竖线，误差为正负0.5微米；以及，

以经过中心点的纵轴为中心的，两个三角形区域，两个三角形的对应两条边平行于纵轴，间距为10微米，误差为0.5微米。

8.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述对准标记Y包括以经过中心点的横轴为中心的，间距为28微米的两条平行于横轴的横线，误差为正负0.5微米；以及，

以经过中心点的横轴为中心的，两个三角形区域，两个三角形的对应两条边平行于横轴，间距为10微米，误差为0.5微米。