[发明专利]一种具有标尺结构的彩色滤光基板及其制造方法有效
申请号: | 201010622149.5 | 申请日: | 2010-12-31 |
公开(公告)号: | CN102540554A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 金子若彦;张莉 | 申请(专利权)人: | 上海广电富士光电材料有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333;G03F7/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈亮 |
地址: | 201108 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 标尺 结构 彩色 滤光 及其 制造 方法 | ||
1.一种彩色滤光基板,包括:
透明玻璃基板;
遮光图案层,位于所述透明玻璃基板的显示区域上,所述遮光图案层具有开口区域;
彩色滤光层,位于所述遮光图案层的开口区域上,并与所述遮光图案层重叠;
基准高度遮光图案组,包含多个高度相同的基准高度遮光图案,沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上,相邻所述基准高度遮光图案之间的间距相等;
参照高度遮光图案组,包含多个高度不同的参照高度遮光图案,沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上;所述参照高度遮光图案组与所述基准高度遮光图案组并列排列,并且,每个所述参照高度遮光图案的垂直方向中心线分别与所述基准高度遮光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线上;
基准宽度遮光图案组,包含多个宽度相同的基准宽度遮光图案,沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上,相邻所述基准宽度遮光图案之间的间距相等;
参照宽度遮光图案组,包含多个宽度不同的参照宽度遮光图案,沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上;所述参照宽度遮光图案组与所述基准宽度遮光图案组并列排列,并且,每个所述参照宽度遮光图案的水平方向中心线分别与所述基准宽度遮光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线上。
2.如权利要求1所述的彩色滤光基板,其特征在于,所述参照高度遮光图案组中至少一个参照高度遮光图案的高度与所述基准高度遮光图案组中相邻基准高度遮光图案之间的间距相等;所述参照宽度遮光图案组中至少一个参照宽度遮光图案组的宽度与所述基准宽度遮光图案组中相邻基准宽度遮光图案之间的间距相等。
3.如权利要求2所述的彩色滤光基板,其特征在于,所述参照高度遮光图案组中各参照高度遮光图案在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列,其中每个所述参照高度遮光图案的高度值H(m)符合下形式:
H(m)=H0+(m-1)A;
其中,H0为最小高度;m为所述参照高度遮光图案的编号;A为高度增加量。
4.如权利要求2所述的彩色滤光基板,其特征在于,所述参照宽度遮光图案组中各参照宽度遮光图案在水平方向上以宽度值从小到大的顺序排列,其中每个所述参照宽度遮光图案的宽度值W(n)符合以下形式:
W(n)=W0+(n-1)B;
其中,W0为最小宽度;n为所述参照宽度遮光图案的编号;B为宽度增加量。
5.如权利要求2、3或4所述的彩色滤光基板,其特征在于,所述参照高度遮光图案组中参照高度遮光图案的个数在20至40个之间;所述参照宽度遮光图案组中参照宽度遮光图案的个数在20至40个之间。
6.如权利要求3或4所述的彩色滤光基板,其特征在于,A的值为0.3-2μm,B的值为0.3-2μm。
7.如权利要求3或4所述的彩色滤光基板,其特征在于,A的值为1μm,B的值为1μm。
8.一种彩色滤光基板,包括:
透明玻璃基板;
遮光图案层,位于所述透明玻璃基板的显示区域上,所述遮光图案层具有开口区域;
彩色滤光层,位于所述遮光图案层的开口区域上,并与所述遮光图案层重叠;
基准高度滤光图案组,包含多个高度相同的基准高度滤光图案,沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上,相邻所述基准高度滤光图案之间的间距相等;
参照高度滤光图案组,包含多个高度不同的参照高度滤光图案,沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上;所述参照高度滤光图案组与所述基准高度滤光图案组并列排列,并且,每个所述参照高度滤光图案的垂直方向中心线分别与所述基准高度滤光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线上;
基准宽度滤光图案组,包含多个宽度相同的基准宽度滤光图案,沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上,相邻所述基准宽度滤光图案之间的间距相等;
参照宽度滤光图案组,包含多个宽度不同的参照宽度滤光图案,沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上;所述参照宽度滤光图案组与所述基准宽度滤光图案组并列排列,并且,每个所述参照宽度滤光图案的水平方向中心线分别与所述基准宽度滤光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海广电富士光电材料有限公司,未经上海广电富士光电材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010622149.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。