[发明专利]一种具有标尺结构的彩色滤光基板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示面板领域，尤其涉及液晶显示面板中彩色滤光基板的结构及其制造方法，具体地说，涉及到在生产过程中遮光图案层(BM层)与彩色滤光层(RGB层)图案尺寸的监测。

背景技术

近年来，液晶显示不仅在信息通讯装置，甚至一般的电器中也迅速得到了普及。液晶显示的主要部件是液晶显示面板，其中的彩色滤光基板是对显示质量非常重要的关键部件之一，其结构一般包括透明玻璃基板、遮光图案层、彩色滤光层、公用电极层以及间隔柱等。其结构请参见图1所示，图1示出了一个像素结构。如图所示，遮光图案层101具有一开口区域102，彩色滤光层103(该彩色滤光层为红色滤光层、蓝色滤光层或绿色滤光层之一)覆盖在该开口区域102上，并且其四周与遮光图案层101有一定的重叠量。

在透明玻璃基板上形成遮光图案层与彩色滤光层的方法通常采用光阻涂布的颜料分散法，即首先将液态光阻涂布在玻璃基板表面，然后通过带有指定图案的曝光掩膜板，使用近接式曝光机进行曝光，再经过显影及烘烤过程形成预设的图案。图2示意性地示出了该曝光过程。

随着液晶显示器行业的不断发展，彩色滤光基板的尺寸不断增加，因此，相应地在曝光过程中使用的曝光掩膜板尺寸也会随之增大。当彩色滤光基板的尺寸增大至G5(即1100*1300cm)及以上时，曝光时掩膜板会由于重力而不可避免地产生弯曲(bending)，造成曝光后图形线幅面内分布不均匀，引起曝光后图案的高度及宽度在整个彩色滤光基板面内分布不均匀，造成光学特性分布不均匀，以及遮光图案层与彩色滤光层重叠区域的偏移，偏移严重时还会产生漏光。

为了避免以上问题的产生，提高彩色滤光基板产品的品质，在彩色滤光基板实际生产过程中需要监测遮光图案层与彩色滤光层的图案高度和宽度，并根据其偏移情况及时作出调整。已有技术中通常使用显微侧长仪来测量上述高度和宽度。这种传统的方式需要花费较长时间，而且需要购买专用的大型在线显微测长仪，不利于在线控制同时也增加了成本。

发明内容

基于背景技术中存在的上述问题，本发明的目的在于提供一种彩色滤光基板，在基板上形成有确认遮光图案和/或彩色滤光图案的宽度的标尺结构，通过这种标尺结构可以使制造者通过目视直接和简便地确认遮光图案或彩色滤光图案的高度和宽度变化，从而快速、方便且经济地控制和调整遮光图案层与彩色滤光层的图案的高度和宽度，提高彩滤光基板的品质。

本发明还同时提供一种制造上述具有标尺结构的彩色滤光基板的制造方法。

根据上述目的，本发明提供彩色滤光基板，包括：

透明玻璃基板；

遮光图案层，位于所述透明玻璃基板的显示区域上，所述遮光图案层具有开口区域；

彩色滤光层，位于所述遮光图案层的开口区域上，并与所述遮光图案层重叠；

基准高度遮光图案组，包含多个高度相同的基准高度遮光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准高度遮光图案之间的间距相等；

参照高度遮光图案组，包含多个高度不同的参照高度遮光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照高度遮光图案组与所述基准高度遮光图案组并列排列，并且，每个所述参照高度遮光图案的垂直方向中心线分别与所述基准高度遮光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线上；

基准宽度遮光图案组，包含多个宽度相同的基准宽度遮光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准宽度遮光图案之间的间距相等；

参照宽度遮光图案组，包含多个宽度不同的参照宽度遮光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照宽度遮光图案组与所述基准宽度遮光图案组并列排列，并且，每个所述参照宽度遮光图案的水平方向中心线分别与所述基准宽度遮光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线上。

在所述的彩色滤光基板中，所述参照高度遮光图案组中至少一个参照高度遮光图案的高度与所述基准高度遮光图案组中相邻基准高度遮光图案之间的间距相等；所述参照宽度遮光图案组中至少一个参照宽度遮光图案组的宽度与所述基准宽度遮光图案组中相邻基准宽度遮光图案之间的间距相等。

在所述的彩色滤光基板中，所述参照高度遮光图案组中各参照高度遮光图案在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照高度遮光图案的高度值H(m)符合下形式：

H(m)＝H0+(m-1)A；

其中，H0为最小高度；m为所述参照高度遮光图案的编号；A为高度增加量。