[发明专利]PSD-95/nNOS解偶联剂分子印迹聚合物的制备方法无效

专利信息
申请号: 201019026093.4 申请日: 2010-02-04
公开(公告)号: CN101817908A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 李飞;殷晓佳;江珂;孙旭;许贯虹;胡琴;都述虎;周学敏 申请(专利权)人: 南京医科大学
主分类号: C08F222/14 分类号: C08F222/14;C08F220/56;C08F226/06;C08J9/26;B01J20/285
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 李纪昌
地址: 210029 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: psd 95 nnos 解偶联剂 分子 印迹 聚合物 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种PSD-95/nNOS解偶联剂分子印迹聚合物制备方法,其特征为:

a.将模板分子和功能单体按1∶1-1∶8的摩尔比溶解到含有交联剂、引发剂的 乙腈溶液中,制备成混合液,交联剂在乙腈中的浓度为20mmol/L-80 mmol/L,引发剂在乙腈中的浓度0.1g/L-1g/L;所述模板分子为6-N-(2- 羟基-3,5-二氯苄基)氨基苯并三氮唑或者4-N-(2-羟基-3,5-二氯苄基) 氨基水杨酸;所述功能单体为4-乙烯吡啶、2-乙烯吡啶或丙烯酰胺中的 一种或任意几种混合物;

b.将混合液密封后,采用加热搅拌的方式聚合反应生成粉末状聚合物,聚 合反应温度为50-70℃,反应时间为12-24h;

c.将粉末状聚合物加入甲醇和三乙胺的混合溶液中进行超声处理,去除模 板分子,离心后将粉末状聚合物加入甲醇中超声处理,去除三乙胺;

d.将上述处理得到的聚合物置于真空干燥箱中干燥至衡重,得到分子印迹 聚合物。

2.根据权利要求1所述PSD-95/nNOS解偶联剂分子印迹聚合物的制备方法,其 特征在于模板分子和功能单体的摩尔比为1∶4。

3.根据权利要求1所述PSD-95/nNOS解偶联剂分子印迹聚合物的制备方法,其 特征在于交联剂在乙腈中的浓度为80mmol/L。

4.根据权利要求1所述PSD-95/nNOS解偶联剂分子印迹聚合物的制备方法,其 特征在于引发剂在乙腈中的浓度为0.8g/L。

5.根据权利要求1所述PSD-95/nNOS解偶联剂分子印迹聚合物的制备方法,其 特征在于交联剂为三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯。

6.根据权利要求1所述PSD-95/nNOS解偶联剂分子印迹聚合物的制备方法,其 特征在于引发剂为偶氮二异丁腈。

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