[实用新型]四分等比例分光装置及具有该装置的激光刻线设备无效

专利信息
申请号: 201020128114.1 申请日: 2010-03-05
公开(公告)号: CN201681210U 公开(公告)日: 2010-12-22
发明(设计)人: 杨明生;覃海;王勇 申请(专利权)人: 东莞宏威数码机械有限公司
主分类号: G02B27/10 分类号: G02B27/10;B23K26/00
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 张艳美;郝传鑫
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 分等 比例 分光 装置 具有 激光 设备
【权利要求书】:

1.一种四分等比例分光装置,用于对入射的准直光束进行分光,其特征在于,包括:

反射镜组,所述反射镜组包括反射率均为100%的第一反射镜及第二反射镜;

分光镜组,所述分光镜组包括反射率和透射率均为50%的第一分光镜、第二分光镜及第三分光镜;

聚焦镜组,所述聚焦镜组包括焦距相等的第一聚焦镜、第二聚焦镜、第三聚焦镜及第四聚焦镜;

所述第一分光镜、第三分光镜、第一反射镜互相平行的依次置于入射的准直光束所在的同一直线上,所述准直光束呈倾斜地入射至所述第一分光镜上形成第一透射光及第一反射光,所述第一透射光入射至第三分光镜上形成第三透射光及第三反射光,所述第三透射光入射至第一反射镜上形成第四反射光,所述第一反射光、第三反射光及第四反射光相互平行且位于准直光束的同一侧;

所述第二分光镜、第二反射镜互相平行的置于准直光束对应第一分光镜所产生的第一反射光的一侧,并且所述第一反射光呈倾斜地入射至所述第二分光镜上形成第二透射光及第二反射光,所述第二反射光入射至所述第二反射镜上形成与所述第二透射光相平行的第五反射光;

所述第一聚焦镜设于所述第五反射光上形成第一束光,所述第二聚焦镜设于所述第二透射光上形成第二束光,所述第三聚焦镜设于所述第三反射光上形成第三束光,所述第四聚焦镜设于所述第四反射光上形成第四束光。

2.如权利要求1所述的四分等比例分光装置,其特征在于:所述第二反射光与准直光束平行。

3.如权利要求1所述的四分等比例分光装置,其特征在于:所述第一聚焦镜、第二聚焦镜、第三聚焦镜及第四聚焦镜的中心均位于与准直光束平行的一直线上。

4.如权利要求1所述的四分等比例分光装置,其特征在于:所述第一束光与第二束光之间的距离、第二束光与第三束光之间的距离、第三束光与第四束光之间的距离相等。

5.一种激光刻线设备,包括第一台板、第二台板、固定于所述第一台板上的激光器、扩束镜、滑动连接于所述第二台板上的若干底座、若干所述底座上设有四分等比例分光装置,其特征在于:所述四分等比例分光装置包括:

反射镜组,所述反射镜组包括反射率均为100%的第一反射镜及第二反射镜;

分光镜组,所述分光镜组包括反射率和透射率均为50%的第一分光镜、第二分光镜及第三分光镜;

聚焦镜组,所述聚焦镜组包括焦距相等的第一聚焦镜、第二聚焦镜、第三聚焦镜及第四聚焦镜;

所述第一分光镜、第三分光镜、第一反射镜互相平行的依次置于入射的准直光束所在的同一直线上,所述准直光束呈倾斜地入射至所述第一分光镜上形成第一透射光及第一反射光,所述第一透射光入射至第三分光镜上形成第三透射光及第三反射光,所述第三透射光入射至第一反射镜上形成第四反射光,所述第一反射光、第三反射光及第四反射光相互平行且位于准直光束的同一侧;

所述第二分光镜、第二反射镜互相平行的置于准直光束对应第一分光镜所产生的第一反射光的一侧,并且所述第一反射光呈倾斜地入射至所述第二分光镜上形成第二透射光及第二反射光,所述第二反射光入射至所述第二反射镜上形成与所述第二透射光相平行的第五反射光;

所述第一聚焦镜设于所述第五反射光上形成第一束光,所述第二聚焦镜设于所述第二透射光上形成第二束光,所述第三聚焦镜设于所述第三反射光上形成第三束光,所述第四聚焦镜设于所述第四反射光上形成第四束光。

6.如权利要求5所述的激光刻线设备,其特征在于:所述第二反射光与准直光束平行。

7.如权利要求5所述的激光刻线设备,其特征在于:所述第一聚焦镜、第二聚焦镜、第三聚焦镜及第四聚焦镜的中心均位于与准直光束平行的一直线上。

8.如权利要求5所述的激光刻线设备,其特征在于:所述第一束光与第二束光之间的距离、第二束光与第三束光之间的距离、第三束光与第四束光之间的距离相等。

9.如权利要求5所述的激光刻线设备,其特征在于:还包括固设于所述第二台板上的水平移动平台,所述底座于所述水平移动平台上沿水平方向自由滑动。

10.如权利要求5所述的激光刻线设备,其特征在于:所述底座具有切割头,所述切割头包括聚焦镜以及喷嘴,所述底座上还设有调节离焦量以及所述喷嘴高度的垂直移动平台。

11.如权利要求10所述的激光刻线设备,其特征在于:所述垂直移动平台包括粗调垂直移动平台以及精调垂直移动平台,所述粗调垂直移动平台旋转喷嘴从而调节所述喷嘴的高度,所述精调垂直移动平台精调所述切割头的高度从而调节所述喷嘴的高度以及离焦量。

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