[实用新型]连续真空镀膜装置无效

专利信息
申请号: 201020143845.3 申请日: 2010-03-24
公开(公告)号: CN201648512U 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 汪友林 申请(专利权)人: 深圳森丰真空镀膜有限公司;森科五金(深圳)有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56
代理公司: 深圳市中知专利商标代理有限公司 44101 代理人: 宋湘红
地址: 518101 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 连续 真空镀膜 装置
【权利要求书】:

1.一种连续真空镀膜装置,其特征在于:包括顺序相连的入片室、加热室、清洗室、镀膜室、过渡室、冷却室、出片室,相邻的两室之间通过真空锁相连,在每个室的室壁上安装有分子泵;还设有用于承载和传输工件的传输机构。

2.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置,其特征在于:所述镀膜室设有一至数个,在每个镀膜室之后均设有一个过渡室,它们依次相接并由真空锁连接。

3.根据权利要求1或2所述的连续真空镀膜装置,其特征在于:在所述清洗室内设有一个、两个或多个离子源。

4.根据权利要求1或2所述的连续真空镀膜装置,其特征在于:在所述镀膜室或过渡室设有膜厚实时监控探头。

5.根据权利要求1或2所述的连续真空镀膜装置,其特征在于:所述传输机构包括托轮、载片车和传动齿轮,在每个室内在传输方向上设有一组托轮和一组传动齿轮,安装托轮的托轮座固定在每个室的室壁上,所述载片车载于托轮上,所述传动齿轮与载片车上的传动齿条啮合。

6.根据权利要求1或2所述的连续真空镀膜装置,其特征在于:在每个室的室壁上设有一至数个工艺输入孔。

7.根据权利要求1或2所述的连续真空镀膜装置,其特征在于:在入片室的前端和出片室的后端设有门。

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