[实用新型]连续真空镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型属于真空镀膜领域，具体涉及一种真空镀膜装置。 

背景技术

现有的连续真空镀膜装置是在一个真空镀膜室里通过挡板隔离并利用不同方式来镀不同的膜层，例如在一个可用电子束蒸发、热蒸发及磁控溅射等方式进行镀膜的多功能连续镀膜装置中，在不做电子束蒸发或热蒸发时，可做磁控溅射镀膜。在做电子束蒸发或热蒸发时，磁控溅射靶要撤到真空镀膜壁附近，否则很容易靶材受到污染，所以操作繁琐，且即使挡板把磁控溅射靶保护起来也很难做到靶材不受到任何污染，因此镀膜质量很难保证。 

发明内容

本实用新型的目的在于针对现有真空镀膜装置存在的上述问题，提供一种能大大提高镀膜效率、并且保证镀膜质量的连续真空镀膜装置。 

本实用新型的目的是这样实现的：本实用新型包括顺序相连的入片室、加热室、清洗室、镀膜室、过渡室、冷却室、出片室，相邻的两室之间通过真空锁相连，在每个室的室壁上安装有分子泵，在每个室内均设有用于承载及传输工件的传输机构。 

本实用新型的技术效果在于：本实用新型中的多个室及镀膜室是 独立并通过真空锁相连的，可以根据工件货品的需要灵活设置镀膜室的个数及不同靶材和不同镀膜方式的镀膜室，从而可以采用最佳方式进行镀膜，并且各个镀膜室相互隔离，靶材不易受到污染，从而可以保证镀膜质量。本实用新型结构设计合理，生产功效高，能够实现工件上一层、二层或多层复合膜的连续制备并实现膜厚的实时监控，尤其对于两面均需镀膜的工件，镀膜效率更是得到大幅度提高。 

附图说明

图1是实施例的俯视图。 

图2是实施例的主视图。 

图3是实施例的放大的右视图。 

具体实施方式

参见图1、图2和图3，本实施例的连续真空镀膜装置包括按前后顺序依次相连的：入片室1、加热室2、清洗室3、第一镀膜室41、第一过渡室51、第二镀膜室42、第二过渡室52、冷却室6、出片室7；相邻的两室之间通过真空锁8相连，真空锁8是用于切断或接通管路的真空系统元件，能够在其关闭时隔绝不同真空空间；真空锁8打开时，相邻两室相通，真空锁8关闭时，相邻两室完全隔离，真空锁8的结构属现有成熟技术；在每个室的室壁上安装有分子泵9，分子泵9用于维持每一室的压强在一定的真空状态，分子泵9的结构属现有成熟技术；在清洗室3内设有一个离子源30；过渡室也称为过渡真空处理室，设在镀膜室之后，起到缓冲作用，本实施例在过渡室51、52设有膜厚实时监控探头对膜厚进行监测，膜厚实时监控探头也可安装在镀膜室上；在每个室内均设有用于承载和传输工件的传输 机构，本实施例中传输机构包括托轮13、载片车11和传动齿轮12，在每个室内在传输方向上设有一组托轮13和一组传动齿轮12，安装托轮13的托轮座14固定在每个室的室壁上，所述载片车11载于托轮13上，载片车11两侧底部的锥形凸起与托轮13的锥形凹槽相配合使载片车11限位，传动齿轮12与载片车11上的传动齿条啮合，传动齿轮12与步进电机连接。由于连续作业提高效率，本实施例在每个室内都设有载片车11，它们载着各个工件沿着各个室的每组托轮13依次前进。 

参见图1和图2，在每个室的室壁上设有工艺输入孔10，本实用新型中工艺输入孔可为一至数个；在入片室1的前端和出片室7的后端设有门15，用于工件进出连续真空镀膜装置。