[实用新型]一种电容式微型麦克风无效

专利信息
申请号: 201020153745.9 申请日: 2010-04-09
公开(公告)号: CN201750548U 公开(公告)日: 2011-02-16
发明(设计)人: 刘同庆;沈绍群 申请(专利权)人: 无锡芯感智半导体有限公司
主分类号: H04R19/04 分类号: H04R19/04
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人: 殷红梅
地址: 214100 江苏省无锡市滨湖区十*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 电容 式微 麦克风
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及MEMS技术,尤其是一种电容式微型麦克风,具体地说是一种利用MEMS技术的硅-硅键合的微型麦克风。

背景技术

MEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems)技术是几年来高速发展的一项高新技术,与传统对应器件相比,MEMS器件在体积、功耗、重量等方面都具有十分明显的优势,而且其采用先进的半导体制造工艺,可以实现MEMS器件的批量制造,能极好的控制生产成本,提高器件的一致性。对于目前的MEMS产品,如加速度计、压力传感器、陀螺仪、微镜、硅麦克风等都已经实现了批量生产,在相应的市场上都占有了一定的份额。

硅麦克风耐高温、耗电量小以及体积小等特点,使得它在移动电话、助听器、笔记本电脑、PDA、摄像机等视听产品以及国防、国家安全等相关领域应用将更加广泛。从麦克风市场的预测和发展来看,硅麦克风成为传统驻极体麦克风的替代产品已经毋庸置疑,它提供了令声学工程师相当满意的相似的甚至更好的声学性能。硅麦克风在几年以后将会成为麦克风市场上的主要产品。

为了开发出高灵敏度和宽带宽的麦克风,高性能振膜的制作至关重要,振膜制作面临的一个主要问题就是振膜应力的控制。现有薄膜的制作主要采用淀积的方法得到,通过淀积得到的振膜会存在较大的残余应力,残余应力对微型硅麦克风的性能有较大影响,大的残余应力能大幅度降低麦克风的灵敏度,压应力还能减小麦克风的耐压能力,严重时能使得麦克风无法正常工作。另外,背极板的制作也至关重要,刚性背极是硅麦克风有良好频率特性和低噪声的前提条件。

目前改善振膜残余应力通常有两种方法,一是通过附加工艺,用退火的方式,这种方式对工艺的控制要求极高,重复性不是很好;另外一种是通过结构调整,如制作自由膜或纹膜结构,但这种结构的制作会导致工艺复杂度的增加,可能需要添加多步工艺,来控制振膜。而实现刚性背极也是麦克风制作过程中的一大难点,目前也是有两种主要方法来解决,一是制作厚背极,但是通过常规的淀积工艺很难得到需要的厚背极;还有一种方法是通过结构调整来提高背极板的刚性,但也是要增加工艺的复杂度。

发明内容

本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种电容式微型麦克风,其结构实现操作简单、能满足小尺寸要求。

按照本实用新型提供的技术方案,所述电容式微型麦克风,包括基板;所述基板上部设有凹槽;所述基板与凹槽的表面均淀积有绝缘支撑层,凹槽内设有振膜;基板对应于淀积绝缘支撑层的表面设置固定连接的背极板,所述背极板与振膜间形成电容结构;所述背极板上设置有若干声孔,所述声孔与凹槽相连通;基板对应于设置振膜的下部设有声腔,所述声腔的深度从基板对应于设置背极板的另一表面延伸到振膜。

所述振膜为导电多晶硅或绝缘材料与金属材料的复合层。所述背极板与基板通过硅硅键合的方法固定连接。所述振膜与背极板上均淀积有电极,所述振膜、背极板分别与对应的电极电性连接。所述背极板为掺杂的单晶硅或单晶硅与绝缘材料的复合层。所述背极板对应于与绝缘支撑层相接触的端面设置氧化层。所述绝缘支撑层的材料包括二氧化硅或氮化硅。所述电极的材料包括铝、镉及金。所述声孔的形状为圆形、方形或椭圆形。所述振膜及对应于所述振膜下方的绝缘支撑层形成声腔的上端面。

本实用新型的优点:所述背极板为掺杂的单晶硅,通过对应的硅片减薄工艺,背极板的厚度可控,能够满足较强的刚性要求。所述电极的材料选用方便,不需要考虑抗氢氟酸腐蚀的问题,去除了材料释放工艺,避免了因材料释放而产生的粘连问题。成品率高,工艺实现简单,能够满足小尺寸的要求。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体附图和实施例对本实用新型作进一步说明。

如图1所示:本实用新型包括基板1、背极板2、氧化层3、绝缘支撑层4、振膜5、声孔6、电极7、凹槽8及声腔9。

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