[实用新型]一种MEMS压力敏感芯片有效

专利信息
申请号: 201020166950.9 申请日: 2010-04-22
公开(公告)号: CN201716136U 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: 沈绍群;周刚;王树娟;郭玉刚 申请(专利权)人: 无锡市纳微电子有限公司
主分类号: G01L1/18 分类号: G01L1/18
代理公司: 无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) 32227 代理人: 顾朝瑞
地址: 214028 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 mems 压力 敏感 芯片
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及微电子机械系统(MEMS)压力传感器领域,具体为一种MEMS压力敏感芯片。

背景技术

基于微电子机械系统(MEMS)的微机械敏感器件以其体积小、成本低、结构简单、可与处理电路集成等优点得到广泛应用和迅速发展。

MEMS压力传感器,是微电子机械系统(MEMS)中最早的商业产品,由于MEMS压力敏感芯片具有输出信号大、信号处理简单等优点,已经得到了越来越广泛的应用,目前市场上的MEMS压力敏感芯片,其包括MEMS相对压力敏感芯片、MEMS绝对压力敏感芯片,其中MEMS绝对压力敏感芯片以真空做为基准,传感器内封装了一个真空腔,以这个真空腔里的真空为基准;MEMS相对压力敏感芯片底部的空腔可连通有一定压力的的接口,将该有一定压力的接口作为基准。

目前压力敏感芯片主要采用硅-玻璃键合的芯片,然而由于硅和玻璃的膨胀系数不匹配,受压力时其变形量不同,易造成压力敏感芯片的不稳定,从而导致其误差大、精度低。

实用新型内容

针对上述问题,本实用新型提供了一种MEMS压力敏感芯片,其能有效提高芯片的稳定性,其误差小、精度高。

其技术方案是这样的:

一种MEMS压力敏感芯片,其包括硅片、基底、敏感电阻排布区、敏感电阻排布区外部电气连接件,其特征在于:所述基底具体为衬底硅片,所述衬底硅片的上表面和下表面的中心部分均开有浅槽,所述衬底硅片的上表面为二氧化硅(SiO2)的氧化层,所述硅片的底面键合于所述衬底硅片的上表面。

其进一步特征在于:

所述硅片的正面排布有敏感电阻排布区、敏感电阻排布区外部电气连接件;

所述敏感电阻排布区内包括压敏电阻、P+连接、金属引线;

所述MEMS压力敏感芯片为MEMS相对压力敏感芯片,所述相对压力敏感芯片其通气孔贯穿所述衬底硅片;

所述通气孔位于所述浅槽的中心位置。

在本实用新型中,由于硅片的底面键合于所述衬底硅片的上表面,故上层硅片和底部的衬底硅片的材质均为硅,受力时,由于其膨胀系数相同,进而其变形量相同,故其能有效提高芯片的稳定性,其误差小、精度高。

附图说明

图1是MEMS绝对压力敏感芯片主视图的结构示意图,

图2是MEMS相对压力敏感芯片主视图的结构示意图。

具体实施方式

具体实施例一:MEMS绝对压力敏感芯片

其结构见图1:其包括硅片1、基底、敏感电阻排布区、敏感电阻排布区外部电气连接件(属于现有成熟技术,图中未画出),基底具体为衬底硅片2,衬底硅片2的上表面和下表面的中心部分均开有浅槽3,衬底硅片2的上表面为SiO2的氧化层4,硅片1的底面键合于衬底硅片2的上表面;硅片1正面依次涂布有二氧化硅(SiO2)的氧化层9和氮化硅层10,硅片1的正面排布有敏感电阻排布区、敏感电阻排布区外部电气连接件;敏感电阻排布区内包括压敏电阻5、P+连接6、金属引线7。

具体实施例二:MEMS相对压力敏感芯片

其结构见图2:其包括硅片1、基底、敏感电阻排布区、敏感电阻排布区外部电气连接件(属于现有成熟技术,图中未画出),基底具体为衬底硅片2,衬底硅片2的上表面和下表面的中心部分均开有浅槽3,衬底硅片2的上表面为SiO2的氧化层4,硅片1的底面键合于衬底硅片2的上表面;硅片1正面依次涂布有二氧化硅(SiO2)的氧化层9和氮化硅层10,硅片1的正面排布有敏感电阻排布区、敏感电阻排布区外部电气连接件;敏感电阻排布区内包括压敏电阻5、P+连接6、金属引线7;通气孔8贯穿衬底硅片2;通气孔8位于浅槽3的中心位置。

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