[实用新型]直立筒式多靶磁控溅射镀膜机

权利要求书

1.一种直立筒式多靶磁控溅射镀膜机，包括圆筒状镀膜室(1)，镀膜室上盖(2)，镀膜基体件装载组件(3)，镀膜基体件公转驱动装置(4)，镀膜基体件自转驱动装置(5)，设置在镀膜室(1)内且位于镀膜室(1)中央部位的能够旋转的第一金属靶(6)和第二金属靶(7)，设置在镀膜基体件(J)公转轨迹外围的第一中频孪生靶(8)和第二中频孪生靶9)，抽真空装置(10)，供电调控器(11)以及进排气调控器(12)，其特征在于，

a、所述镀膜室上盖(2)，在工作状态下与镀膜室(1)顶端密封配装；所述第一金属靶(6)和第二金属靶(7)分别与镀膜室上盖(2)转动连接；在第一金属靶(6)和第二金属靶(7)的顶端，分别设有第一被动传动件(13、14)，固装在镀膜室上盖(2)上的第一电机(15)，通过设在其输出轴上的主动传动件(16)，与第一被动传动件(13、14)传动连接；与所述镀膜室(1)内腔连接贯通的进排气管，分别设置在镀膜室上盖(2)上；

b、所述镀膜基体件公转驱动装置(4)，包括设在所述镀膜室(1)内的镀膜基体件装载架(22)，转轴(23)，第二电机(24)，第二主动传动件(25)，和第二被动传动件(26)；所述镀膜基体件装载架(22)，由上圈(22-1)、下圈(22-2)，和若干根一端与上圈(22-1)底面连接，另一端与下圈(22-2)顶面连接的支撑杆(22-3)组成；所述上圈(22-1)设有若干通孔(22-1-1)，所述下圈(22-2)设有与上圈(22-1)所设通孔(22-1-1)等量且相应对的底孔(22-2-1)；所述通孔(22-1-1)和底孔(22-2-1)，分别与镀模基体件(J)转动配装，所述转轴(23)与下圈(22-2)固定连接；与转轴(23)固定连接的第二被动传动件(25-1)，与固装在第二电机(24)输出轴上的第二主动传动件(25-2)传动连接；所述下圈(22-2)的底面承支在镀膜室(1)的内底平面上，且两者呈面面接触动配合。

2.根据权利要求1所述的直立筒多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于，还包括分隔板(27)；所述分隔板(27)与镀膜室上盖(2)底面固定连接；圆筒式镀膜室(1)通过分隔板(27)，分隔成左镀膜室(1-1)和右镀膜室(1-2)；所述第一金属靶(6)和第二金属靶(7)，分别设在左镀膜室(1-1)和右镀膜室(1-2)内，且位于接近镀膜室(1)的中央部位。

3.根据权利要求1所述的直立筒式多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述镀膜基体件自转驱动装置(5)，包括内齿圈(5-1)和被动齿轮(5-2)；所述内齿圈(5-1)与所述镀膜室(1)上口部位内壁固定连接；被动齿轮(5-2)与设在镀膜基体件装载架(22)的上圈(22-1)的通孔(22-1-1)和下圈(22-2)的底孔(22-2-1)内，且呈转动配合的镀膜基体件(J)的顶端配装固定连接， 所述内圈(5-1)与被动齿轮(5-2)相啮合；从而构成行星齿轮传动式镀膜基体件自转装置(5)。

4.根据权利要求1所述的直立筒式多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述镀膜基体自转驱动装置(5)，包括固装在镀膜基体件装载架(22)上的第三电机(28)，固装在第三电机(28)输出轴上的主动链轮(29)，套装且固定在镀膜基体件(J)顶端的从动链轮(30)和闭环链条(31)；所述从动链轮(30)和主动链轮(29)，分别与闭环链条(31)相啮合，从而构成链传动式镀膜基体件自转驱动装置(5)。

5.根据权利要求2所述的直立筒式多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述第一中频孪生靶(8)和第二中频孪生靶(9)对称布置在分隔板(27)左右两侧的左镀膜室(1-1)和右镀膜室(1-2)的位于镀膜基体件公转轨迹外围的靠近内侧壁部位。

6.根据权利要求5所述的直立筒式多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于，在左镀膜(1-1)和右镀膜室(1-2)的内侧壁上，分别设有与第一中频孪生靶(8)和第二中频孪生靶(9)等量的，且沿轴向布置的向外凸起的凹槽(32)，所述第一中频孪生靶(8)和第二中频孪生靶(9)，分别设在凹槽(32)内。