[实用新型]存储卡的改良结构无效
申请号: | 201020179562.4 | 申请日: | 2010-04-30 |
公开(公告)号: | CN201681413U | 公开(公告)日: | 2010-12-22 |
发明(设计)人: | 叶益志 | 申请(专利权)人: | 锐腾科技有限公司 |
主分类号: | G06K19/073 | 分类号: | G06K19/073 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 存储 改良 结构 | ||
1.一种存储卡的改良结构,其特征在于,包含:
一下壳体,在底端开设有多个端子孔;
一电路板,设置于所述下壳体的上端,所述电路板具有存储元件及端子片,且该端子片对应设于该下壳体的端子孔;及
一上壳体,为一金属材质,其对应设置于该下壳体的上端,且该上壳体与该下壳体互盖形成有一容置空间,以供收容该电路板。
2.如权利要求1所述的存储卡的改良结构,其特征在于,其更包括一导电元件,该导电元件置于该电路板与该上壳体间,并分别与该电路板及该上壳体电气连接。
3.如权利要求2所述的存储卡的改良结构,其特征在于,该电路板设有一接点,而供该导电元件的一面电气连接,且该导电元件的另一面与该上壳体电气连接。
4.如权利要求1或3所述的存储卡的改良结构,其特征在于,该上壳体凹设有文字或图案。
5.如权利要求4所述的存储卡的改良结构,其特征在于,该凹设的图案及文字内填入有色料。
6.如权利要求5所述的存储卡的改良结构,其特征在于,该上壳体涂布有一层膜,且该层膜上形成文字或图案。
7.如权利要求6所述的存储卡的改良结构,其特征在于,该文字或图案由蚀刻或激光雕刻该层膜,以形成凹设图案及文字并呈现该上壳体的金属表面。
8.如权利要求7所述的存储卡的改良结构,其特征在于,该凹设图案及文字内填入有色料。
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