[实用新型]应用于预真空腔室托盘的销有效
| 申请号： | 201020210210.0 | 申请日： | 2010-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN201729880U | 公开（公告）日： | 2011-02-02 |
| 发明（设计）人： | 李广宁 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 应用于 空腔 托盘 | ||
【权利要求书】：
1.一种应用于预真空腔室托盘的销，所述销设置于所述托盘的销孔内，其特征在于，所述销的外壁与销孔的内壁相配合，所述销的下部伸出销孔的部分沿周向设有用于置放O形圈的凹槽。
2.如权利要求1所述的应用于预真空腔室托盘的销，其特征在于，所述O形圈的外径大于销孔的内径。
3.如权利要求1或2所述的应用于预真空腔室托盘的销，其特征在于，所述销孔是由位于上方的大孔和位于下方的小孔连接组成的同心阶梯孔，所述销的上部的外径与大孔的内径相配合，所述销的下部的外径与小孔的内径相配合。
4.如权利要求1所述的应用于预真空腔室托盘的销，其特征在于，所述销通过一体成型制造。
5.如权利要求1所述的应用于预真空腔室托盘的销，其特征在于，所述销采用陶瓷材料。
6.如权利要求1所述的应用于预真空腔室托盘的销，其特征在于，所述O形圈是采用橡胶材料。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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