[实用新型]卧式多晶硅还原炉入料射流装置无效

专利信息
申请号: 201020213167.3 申请日: 2010-06-03
公开(公告)号: CN201809175U 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 袁建中 申请(专利权)人: 袁建中
主分类号: C01B33/03 分类号: C01B33/03;C30B29/06
代理公司: 上海开祺知识产权代理有限公司 31114 代理人: 李兰英;季良赳
地址: 上海市徐汇区蒲*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 卧式 多晶 还原 炉入料 射流 装置
【权利要求书】:

1.卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是:包括与原料气进气管相连接的伞塔,与伞塔出口相连接的均孔喷盘,与均孔喷盘出口相连接的角度喷盘,笼罩在角度喷盘喷出方向外侧的风帽。

2.如权利要求1所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述伞塔的喷射角为132°~138°。

3.如权利要求2所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述伞塔的喷射角为135°。

4.如权利要求1所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述角度喷盘的喷射角为44°~47°。

5.如权利要求1所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述风帽的笼罩角度为115°~125°。

6.如权利要求1所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述角度喷盘的出口处安装有风网。

7.如权利要求1所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述伞塔的圆周内壁上开设有螺旋槽。

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