[实用新型]卧式多晶硅还原炉入料射流装置无效
申请号: | 201020213167.3 | 申请日: | 2010-06-03 |
公开(公告)号: | CN201809175U | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 袁建中 | 申请(专利权)人: | 袁建中 |
主分类号: | C01B33/03 | 分类号: | C01B33/03;C30B29/06 |
代理公司: | 上海开祺知识产权代理有限公司 31114 | 代理人: | 李兰英;季良赳 |
地址: | 上海市徐汇区蒲*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 卧式 多晶 还原 炉入料 射流 装置 | ||
1.卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是:包括与原料气进气管相连接的伞塔,与伞塔出口相连接的均孔喷盘,与均孔喷盘出口相连接的角度喷盘,笼罩在角度喷盘喷出方向外侧的风帽。
2.如权利要求1所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述伞塔的喷射角为132°~138°。
3.如权利要求2所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述伞塔的喷射角为135°。
4.如权利要求1所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述角度喷盘的喷射角为44°~47°。
5.如权利要求1所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述风帽的笼罩角度为115°~125°。
6.如权利要求1所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述角度喷盘的出口处安装有风网。
7.如权利要求1所述的卧式多晶硅还原炉入料射流装置,其特征是,所述伞塔的圆周内壁上开设有螺旋槽。
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