[实用新型]单晶炉、多晶炉循环水管道装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体生产领域，具体为一种单晶炉、多晶炉循环水管道装置。

背景技术

半导体需要用到单晶硅、多晶硅，因此单晶炉、多晶炉是半导体生产中常用到的加热装置。在实际生产中，需要向单晶炉、多晶炉中通水，以进行冷却。而生产中往往需要用到大量的水，会遇到水压不够的问题，大大制约了单晶硅、多晶硅的产量，使生产效率大为降低，同时也造成了水资源的浪费。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种单晶炉、多晶炉循环水管道装置，以解决单晶硅、多晶硅生产时遇到的水压不够，造成水资源浪费的问题。

为了达到上述目的，本实用新型所采用的技术方案为：

单晶炉、多晶炉循环水管道装置，包括有笔直的连通至单晶炉或多晶炉的主管道，其特征在于：还包括多个水泵，每个水泵的进、出水口上分别对应安装有进、出水管道，所述进水管道分别连通至所述单晶炉或多晶炉，所述出水管道分别从主管道上方与主管道连通，多个出水管道彼此平行且均相对所述主管道倾斜相同的角度。

本实用新型结构简单，易于安装和日常维护，循环的管道，使单晶炉、多晶炉中的水能够循环利用，大大节约了水资源。通过水泵和水泵中安装的出水管道，并将出水管道倾斜一定角度从主管道的上方与主管道连通，这样可以施加给管道中的水一定的压力，解决了水压不够的问题，大大提高了单晶硅、多晶硅的生产效率。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

具体实施方式

如图1所示。单晶炉、多晶炉循环水管道装置，包括有笔直的连通至单晶炉或多晶炉的主管道1，还包括多个水泵，每个水泵2的进、出水口上分别对应安装有进、出水管道3、4，进水管道3分别连通至单晶炉或多晶炉，出水管道4分别从主管道1上方与主管道1连通，多个出水管道4彼此平行且均相对主管道1倾斜相同的角度。