[实用新型]改进的喷嘴结构有效
申请号: | 201020233721.4 | 申请日: | 2010-06-21 |
公开(公告)号: | CN201692889U | 公开(公告)日: | 2011-01-05 |
发明(设计)人: | 吴俊龙 | 申请(专利权)人: | 华景电通股份有限公司 |
主分类号: | B05B1/06 | 分类号: | B05B1/06;B05B1/34 |
代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人: | 刘云贵 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改进 喷嘴 结构 | ||
1.一种改进的喷嘴结构,其特征在于,包含喷嘴本体,该喷嘴本体包括上部、颈部及贯孔,该上部呈漏斗状并向下朝内逐渐内缩,该颈部接续于该上部并由该上部向下延伸,该贯孔贯穿该上部与该颈部,该上部并包含顶面,该顶面朝向该贯孔凸伸有复数个凸缘,每一凸缘之间并彼此间隔出一流道,这些流道连通于该贯孔。
2.如权利要求1所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘以等角度环绕朝向该贯孔凸伸。
3.如权利要求2所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘的数量为八个并彼此间隔出八个流道。
4.如权利要求3所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘的每一个的横向宽度为2mm。
5.如权利要求2所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘的数量为三个并彼此间隔出三个流道。
6.如权利要求5所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘的每一个的横向宽度是为2mm。
7.如权利要求1至6任一项所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘的每一个分别包含前端,且两相邻凸缘的前端相距的间隔为1mm。
8.如权利要求7所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该喷嘴本体为抗静电硅胶喷嘴本体。
9.如权利要求8所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该颈部并凹设有环凹槽。
10.如权利要求7所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该贯孔的直径为10mm。
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