[实用新型]改进的喷嘴结构有效

专利信息
申请号: 201020233721.4 申请日: 2010-06-21
公开(公告)号: CN201692889U 公开(公告)日: 2011-01-05
发明(设计)人: 吴俊龙 申请(专利权)人: 华景电通股份有限公司
主分类号: B05B1/06 分类号: B05B1/06;B05B1/34
代理公司: 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 代理人: 刘云贵
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 改进 喷嘴 结构
【权利要求书】:

1.一种改进的喷嘴结构,其特征在于,包含喷嘴本体,该喷嘴本体包括上部、颈部及贯孔,该上部呈漏斗状并向下朝内逐渐内缩,该颈部接续于该上部并由该上部向下延伸,该贯孔贯穿该上部与该颈部,该上部并包含顶面,该顶面朝向该贯孔凸伸有复数个凸缘,每一凸缘之间并彼此间隔出一流道,这些流道连通于该贯孔。

2.如权利要求1所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘以等角度环绕朝向该贯孔凸伸。

3.如权利要求2所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘的数量为八个并彼此间隔出八个流道。

4.如权利要求3所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘的每一个的横向宽度为2mm。

5.如权利要求2所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘的数量为三个并彼此间隔出三个流道。

6.如权利要求5所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘的每一个的横向宽度是为2mm。

7.如权利要求1至6任一项所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该复数个凸缘的每一个分别包含前端,且两相邻凸缘的前端相距的间隔为1mm。

8.如权利要求7所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该喷嘴本体为抗静电硅胶喷嘴本体。

9.如权利要求8所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该颈部并凹设有环凹槽。

10.如权利要求7所述的改进的喷嘴结构,其特征在于,该贯孔的直径为10mm。

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