[实用新型]激光陀螺腔体化学抛光装置有效
| 申请号： | 201020233839.7 | 申请日： | 2010-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN201895258U | 公开（公告）日： | 2011-07-13 |
| 发明（设计）人： | 李敏;于秋平;马辉;李大琪;陈勇 | 申请（专利权）人： | 中国航空工业第六一八研究所 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 中国航空专利中心 11008 | 代理人： | 杜永保 |
| 地址： | 710065 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光 陀螺 化学抛光 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种激光陀螺腔体化学抛光装置，其特征在于：包括一底盘[1]、一转轴[2]、压片[3]和若干个激光陀螺腔体[4]，其中，所述激光陀螺腔体[3]固定在底盘上[1]，所述转轴[2]设置在底盘[1]中央，所述压片套在转轴[2]上，压片[3]靠螺母固定在转轴[2]上，其所指方向激光陀螺腔体[4]上面，并压紧固定激光陀螺腔体[4]的上端面。
2.根据权利要求1所述的激光陀螺腔体化学抛光装置，其特征在于：所述激光陀螺腔体[4]数目为2个、3个、4个、5个、6个或更多。
3.根据权利要求2所述的激光陀螺腔体化学抛光装置，其特征在于：所述激光陀螺腔体[4]，在底盘[1]上放置时，各激光陀螺腔体[4]之间存在一定的空隙。
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