[实用新型]用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置

权利要求书

1.一种用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括：

导轨(5)，所述导轨(5)与母版(3)的长度方向平行地布置在所述母版(3)的侧部；

套筒(6)，安装在所述导轨(5)上，并且能够沿所述导轨(5)自由滑动；

其中，所述套筒(6)为圆柱形空心套筒，并包括：金属外壳(10)；以及粘性膜层(9)，套设在所述金属外壳(10)外。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述套筒(6)的长度不小于图形区(4)的宽度。

3.根据权利要求2所述的清洁装置，进一步包括：杆(7)，所述杆(7)的一端连接至所述套筒(6)。

4.根据权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，所述杆(7)具有枢转轴，所述杆(7)能够围绕所述枢转轴枢转，并相对于所述导轨(5)具有直立和平放两种状态。

5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述金属外壳(10)连接有低压电源。

6.根据上述权利要求中任一项所述的清洁装置，其特征在于，所述导轨(5)为分别布置在所述母版(3)一侧的两条导轨(5a、5b)，所述套筒(6)为分别安装在所述两条导轨(5a、5b)中 的一条上且能够沿所述导轨自由滑动的两个套筒(6a、6b)，并且所述杆(7)为分别与所述两个套筒(6a、6b)中的一个的一端连接的两个杆(7a、7b)。