[实用新型]用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种清洁装置，更具体地，涉及一种用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置。 

背景技术

众所周知，制作彩色等离子体显示屏时所用的曝光设备主要是用来对感光性浆料进行选择性曝光，留下需要的部分，除去不需要的部分，再经过显影等工艺形成所需要的图形，这也就是形成电极线条的过程。在等离子体显示板(PDP)的制作流程中，ITO、Bus、ADD、障壁的制作等多个工艺流程都需要进行曝光工作，而其中对感光性浆料的选择性曝光是通过母版(photo mask)来完成的。 

目前，传统的PDP曝光设备都是采用立式母版来进行曝光，也就是说，曝光过程中母版和印有感光性浆料的玻璃基板是在直立状态下进行曝光的。其工作流程大致如下： 

当印有感光性浆料的玻璃基板进入曝光设备之后，首先用夹子将玻璃基板固定在台子(stage)上。然后使台子直立，玻璃基板也随之直立，而与母版平行。随着台子朝着母版移动，玻璃基板逐渐靠近母版。接着进行对位和间隙测量。最后开始进行曝光。 

图1是示意性地示出了在用传统的曝光设备进行曝光时母版与玻璃基板之间的相对位置关系的视图。在图1中，直立的台子用参 考标号1表示，待曝光的印有感光浆料的玻璃基板用参考标号2表示，母版用参考标号3表示，母版中的图形区(即，需要进行清洁的区域)用参考标号4表示。在进行曝光时，光线沿箭头所示方向射入，经由图形区4到达感光浆料表面，从而达到曝光的目的。 

但需要注意的是，如果图形区4受到灰尘颗粒的污染，曝光后得到的图形就会受到影响。为了使曝光后得到的线条均匀无缺陷，必须确保母版3的表面足够清洁，防止灰尘落到母版3上。但由于母版3的表面容易产生静电，很容易吸附灰尘，因此必须每次在进行曝光之前或定期地对母版3的表面进行清洁。上述清洁可先使用湿设备进行，然后吹干，或者进行干式清洁。 

目前，对于量产线上的母版一般都是采用湿法清洁。然而，清洁完的母版在后续的运输过程中又容易被污染。 

对于试验室中使用的母版一般是进行手动除尘。然而，手动除尘存在如下所述的诸多缺陷：一是由于操作人员对曝光设备内部洁净度的影响，从而破坏了高洁净度要求，带来了新的污染；二是在手动除尘的过程中，由于操作人员的作业会产生气流而带起尘埃，往往是在刚用粘滚清洁完母版之后又使母版立刻粘上新的灰尘，因而除尘工作难以彻底完成；三是无法对曝光设备进行细致的检查，不能很好地判断除尘效果。综上所述，手工除尘很难彻底清洁母版，而且很容易造成二次污染。 

由此可见，无论是量产线上的母版还是试验室中使用的母版都未能很好地得到清洁及进行检查。为此，有必要开发出一种改良的用于母版的清洁装置，以提高除尘效率，并准确判断有无灰尘的存在，从而保证良好的洁净度。 

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型提出了一种结构简单、且能够对母版进行自动除尘的清洁装置。无论是量产线上的母版还是试验室中使用的母版均可使用本清洁装置进行清洁，并且能够实现大面积全自动除尘，而操作人员只需定期检查并更换清洁装置即可。因此，本清洁装置既提高了曝光图形的质量又节省了人力物力。 

在本实用新型的优选实施例中，提供了一种用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置。本清洁装置的特征在于，其包括：导轨，与母版的长度方向平行地布置在母版的侧部；套筒，安装在导轨上，并且能够沿导轨自由滑动；其中，该套筒为圆柱形空心套筒，并包括：金属外壳；以及粘性膜层，套设在该金属外壳外，以粘住母版表面的灰尘颗粒。 

进一步地，套筒的长度不小于图形区的宽度。 

进一步地，本清洁装置进一步包括：杆，一端连接至套筒。 

进一步地，该杆具有枢转轴，杆能够围绕该枢转轴枢转，并相对于导轨具有直立和平放两种状态。从而，当本清洁装置开始工作时，套筒随杆一起直立，并从导轨一侧的起始位置移动到另一侧的终结位置，以扫过图形区；当清洁装置停止工作时，套筒随杆平放在导轨上。 

进一步地，在本清洁装置工作时，金属外壳连接有低压电源，以起到静电吸附的作用，从而与粘性膜层的物理吸附作用配合而更好地清除灰尘。 

进一步地，上述导轨为分别布置在母版一侧的两条导轨，上述套筒为分别安装在两条导轨中的一条上且能够沿该导轨自由滑动的两个套筒，并且上述杆为分别与两个套筒中的一个的一端连接的两个杆。因此，可以同时对母版的两个表面进行清洁，并且由于两个套筒在同一水平位置，使得清洁时母版两侧的力达到平衡状态。