[实用新型]晶片盒清洁装置有效
| 申请号： | 201020246443.6 | 申请日： | 2010-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN201728204U | 公开（公告）日： | 2011-02-02 |
| 发明（设计）人： | 许亮 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 晶片 清洁 装置 | ||
1.一种晶片盒清洁装置，其特征在于，包括：工作台、进气管路、排气管路、气体供给装置以及排风装置，所述气体供给装置与所述进气管路连接，所述排风装置与所述排气管路连接，所述工作台包括一腔体，所述进气管路与所述腔体连通形成进气通道，所述排气管路与所述腔体连通形成排气通道。
2.如权利要求1所述的晶片盒清洁装置，其特征在于，还包括设置于所述腔体内的隔板，所述隔板将所述腔体分为第一腔体和第二腔体，所述隔板上设置有吸尘孔，所述第一腔体和第二腔体通过所述吸尘孔连通。
3.如权利要求2所述的晶片盒清洁装置，其特征在于，所述吸尘孔与水平面的夹角为10～80℃。
4.如权利要求2所述的晶片盒清洁装置，其特征在于，所述隔板的材质是聚偏氟乙烯。
5.如权利要求1所述的晶片盒清洁装置，其特征在于，还包括三向阀，所述三向阀包括第一阀口、第二阀口和第三阀口，所述第一阀口与所述进气管路连接，所述第二阀口与所述排气管路连接，所述第三阀口与所述工作台连接。
6.如权利要求5所述的晶片盒清洁装置，其特征在于，所述第三阀口通过一总管路与所述工作台连接。
7.如权利要求5所述的晶片盒清洁装置，其特征在于，还包括框架，所述工作台设置于所述框架内，所述框架的顶部具有开口。
8.如权利要求7所述的晶片盒清洁装置，其特征在于，所述进气管路穿过所述框架与所述第一阀口连接，所述排气管路穿过框架与所述第二阀口连接。
9.如权利要求1至8中任意一项所述的晶片盒清洁装置，其特征在于，所述气体供给装置为氮气供给装置。
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