[实用新型]玻璃基板的检测设备和干法刻蚀设备

权利要求书

1.一种玻璃基板的检测设备，其特征在于，包括：

具有多个检测气孔的载台，所述多个检测气孔位于所述载台上所述玻璃基板的覆盖区域；

与所述多个检测气孔相连通的检测管路，所述检测管路用于向所述多个检测气孔通入气体；

与所述检测管路相连接的检测元件，所述检测元件用于检测通入所述检测气孔的气体流量或压力以确定所述玻璃基板是否存在裂缝。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板的检测设备，其特征在于，还包括报警器；所述报警器与所述检测元件电性连接，用于当所述检测元件检测到所述检测气孔的气体流量或压力不正常时，发出报警信号。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃基板的检测设备，其特征在于，所述检测气孔的孔径为0.5mm-3mm。

4.根据权利要求1或2所述的玻璃基板的检测设备，其特征在于，所述多个检测气孔之间的距离范围在10～50mm之间。

5.一种利用权利要求1所述的玻璃基板的检测设备进行干法刻蚀的设备，包括真空腔室内相对设置的上部电极和下部电极，所述上部电极和所述下部电极用于对放置于所述下部电极上的玻璃基板施加电场，其特征在于，所述下部电极即为所述玻璃基板的检测设备中的所述载台，所述多个检测气孔位于所述下部电极上靠近所述玻璃基板覆盖区域的边缘位置，所述玻璃基板的检测设备还用于检测所述下部电极与所述玻璃基板之间是否存在异物。

6.根据权利要求5所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述下部电极的四周具有陶瓷块，所述陶瓷块上具有多个所述检测气孔。

7.根据权利要求5或6所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述下部电极上靠近所述玻璃基板覆盖区域的边缘位置为：距离所述玻璃基板覆盖区域边缘3～10cm的位置。

8.根据权利要求5所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述下部电极的中心区域具有气孔，所述气孔与所述检测管路相连，所述气孔用于通入气体以冷却所述玻璃基板；

在所述检测管路中，与所述检测气孔相连的管路上设置有阀门，所述阀门用于调节通向所述检测气孔的气体流量或压力。

9.根据权利要求8所述的干法刻蚀设备，其特征在于，还包括阀门控制器；所述阀门控制器与所述阀门相连接，用于控制所述阀门的动作。