[实用新型]一种离子注入机台离子源的校准装置有效
申请号: | 201020266004.1 | 申请日: | 2010-07-21 |
公开(公告)号: | CN201845737U | 公开(公告)日: | 2011-05-25 |
发明(设计)人: | 许鹖 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01J37/304 | 分类号: | H01J37/304 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 离子 注入 机台 离子源 校准 装置 | ||
1.一种离子注入机台离子源的校准装置,包括底座、位于所述底座上并与底座一体成型的基板,其特征在于,所述基板的表面具有相互平行的第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽,并在所述第一凹槽的反面安装第一齿轮、所述第二凹槽的反面安装带有摇杆的第二齿轮以及第四齿轮、所述第三凹槽的反面安装第三齿轮;所述第一齿轮、所述第二齿轮、所述第三齿轮安装在滚动带内,并且所述第二齿轮位于所述第一齿轮与所述第三齿轮之间,所述第四齿轮与所述第二齿轮衔接匹配。
2.根据权利要求1所述的离子注入机台离子源的校准装置,其特征在于,所述第一凹槽、所述第二凹槽、所述第三凹槽与所述底座垂直。
3.根据权利要求1所述的离子注入机台离子源的校准装置,其特征在于,所述第一凹槽、所述第二凹槽、所述第三凹槽与离子注入机台的夹钳的规格大小相互匹配。
4.根据权利要求1所述的离子注入机台离子源的校准装置,其特征在于,所述基板是矩形体。
5.根据权利要求1所述的离子注入机台离子源的校准装置,其特征在于,所述第一凹槽、所述第二凹槽、所述第三凹槽所处的基板面内留有与紧靠夹钳的绝缘板规格大小相匹配的空间。
6.根据权利要求1所述的离子注入机台离子源的校准装置,其特征在于,所述基板是塑钢材料。
7.根据权利要求1所述的离子注入机台离子源的校准装置,其特征在于,所述第四齿轮离所在基板面的距离大于所述第一齿轮或所述第三齿轮离所在基板面的距离。
8.根据权利要求1所述的离子注入机台离子源的校准装置,其特征在于,所述第二齿轮通过所述摇杆控制与所在基板面的距离。
9.根据权利要求1所述的离子注入机台离子源的校准装置,其特征在于,远离所述底座的三个凹槽端分别设置与所述夹钳夹口大小规格匹配的第一连接块、第二连接块、第三连接块,并且所述第一连接块、第二连接块、第三连接块穿过所述基板分别固定在所述第一齿轮、所述第四齿轮、所述第三齿轮的轴内。
10.根据权利要求9所述的离子注入机台离子源的校准装置,其特征在于,所述连接块是钢块。
11.根据权利要求9所述的离子注入机台离子源的校准装置,其特征在于,所述连接块是长方体。
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